[发明专利]涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置

说明书

本发明提供一种涂抹构件的清洗方法，该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中，向载玻片10上滴下清洗剂11，让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触，清洗涂抹构件42。

技术领域

本发明涉及一种涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置。

背景技术

已知有一种涂抹标本制作方法，在该方法中，在向载玻片上滴下血液等生物体试样后，用涂抹构件将试样展开地又广又薄，制作涂抹标本。试样会附着于涂抹构件，因此需要针对每一次试样涂抹清洗涂抹构件。例如在专利文献1中公开了一种涂抹构件的清洗方法，在该方法中，针对每一次试样涂抹擦拭涂抹构件以去除附着于涂抹构件的试样。

在先技术文献

专利文献

专利文献1特表（日本专利公表）平11－506826号公报。

发明内容

发明要解决的技术问题

在上述专利文献1的涂抹构件的清洗方法中，针对每一次试样涂抹，虽然可以通过擦拭涂抹构件去除附着于涂抹构件的试样，但是当涂抹次数增加时，蛋白质等污渍会蓄积在涂抹构件的端面，因此会使涂抹构件的端面形状发生变化。因此很难使涂抹状态保持恒定，故而在涂抹次数增加时，为了使涂抹状态保持为所希望的状态，用户需要定期进行清洁涂抹构件、更换涂抹构件等维护作业。因此，当涂抹次数增加时，存在为了使涂抹状态保持在所希望的状态下，增大用户的操作负担的问题。

本发明的目的在于，即使在涂抹次数增加的情况下也可以使涂抹状态保持为所希望的状态，同时避免增大用户的操作负担。

解决技术问题的技术手段

本发明第一层面的涂抹构件的清洗方法是一种涂抹构件的清洗方法，在该方法中，向载玻片（10）上滴下清洗剂（11）并使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42）。

在第一层面的涂抹构件的清洗方法中，如上所述，向载玻片（10）上滴下清洗剂（11）并使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42）。由此，能够通过向载玻片（10）上滴下的清洗剂（11）清洗涂抹构件（42），因此不同于针对每次涂抹的涂抹构件（42）的清洗，能够用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）。由此能够高效地去除蓄积在涂抹构件（42）上的附着物，因此能够使得涂抹构件（42）的端面形状保持恒定。由此能够使得涂抹状态保持恒定。另外，由于能够使用用于涂抹的载玻片（10）清洗涂抹构件（42），因此能够轻松地使涂抹构件（42）的清洗作业自动化。由此能够防止用户作业负担增大。因此，能够防止用户作业负担增大并使得即使涂抹次数增加也将涂抹状态保持为所希望的状态。另外，通过用载玻片（10）清洗涂抹构件（42）就不需要另外设置用于清洗的专用构件，因此还能够防止装置结构的复杂化。

在上述第一层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触一定时间，清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，能够通过清洗剂（11）高效地分解并去除涂抹构件（42）上的附着物，因此能够稳定地将涂抹状态保持恒定。

此时优选为使涂抹构件（42）接触清洗剂（11）的时间比制作涂抹标本时使涂抹构件（42）接触试样的时间长。通过这样的结构，能够使涂抹构件（42）与清洗剂（11）接触比制作涂抹标本时与试样接触的时间长的时间，因此能够更高效地分解并去除涂抹构件（42）上的附着物。