[发明专利]一种结构光投影模组和深度相机有效

专利信息
申请号: 201810245779.1 申请日: 2018-03-23
公开(公告)号: CN108594455B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 许星 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: G02B27/42 分类号: G02B27/42
代理公司: 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 代理人: 程丹
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 斑点 结构光投影 光斑 二维图案 阵列光束 点图案 模组 透镜 衍射光学元件 深度相机 光源 随机性 汇聚 斑点图案 不相关度 关键指标 光源阵列 密度分布 平铺排列 衍射级数 耦合 非直线 出射 投射 衍射 发射 统一
【权利要求书】:

1.一种结构光投影模组,其特征在于,包括:

光源阵列,包括以二维图案形式排列的多个子光源,用于发射与所述二维图案相对应的阵列光束;

透镜,接收并汇聚所述阵列光束;

衍射光学元件,接收经所述透镜汇聚后出射的所述阵列光束,并投射出结构光斑点图案化光束;

其中,所述结构光斑点图案由多个与所述二维图案对应的斑点块平铺排列而成,所述斑点块由所述多个子光源经衍射光学元件衍射后形成的相同衍射级数的斑点组成,所述斑点块的边缘为非直线且相互耦合。

2.如权利要求1所述的结构光投影模组,其特征在于,所述二维图案为不规则排列图案。

3.如权利要求1所述的结构光投影模组,其特征在于,所述光源阵列还包括衬底,所述多个子光源被配置在所述衬底上。

4.如权利要求3所述的结构光投影模组,其特征在于,所述子光源为垂直腔面激光发射器。

5.如权利要求1所述的结构光投影模组,其特征在于,所述衍射光学元件对所述阵列光束中的单个光束经衍射后形成子斑点图案,所述子斑点图案中斑点排列形式为规则排列。

6.如权利要求5所述的结构光投影模组,其特征在于,所述结构光斑点图案中多个所述斑点块的排列形式与所述子斑点图案中斑点排列形式相对应。

7.如权利要求1所述的结构光投影模组,其特征在于,相邻的所述斑点块边缘之间邻接。

8.如权利要求1所述的结构光投影模组,其特征在于,相邻的所述斑点块边缘之间有间隙。

9.如权利要求1所述的结构光投影模组,其特征在于,所述光源阵列包括可独立控制的多个子光源阵列,对所述多个子光源阵列进行单独或整体控制以产生多个密度分布不同的所述结构光斑点图案。

10.一种深度相机,其特征在于,包括:

如权利要求1-9任一所述的结构光投影模组,用于向空间中投射结构光图案;

采集模组,用于获取所述结构光图案;

处理器,接收所述结构光图案并计算出深度图像。

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