[发明专利]用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质

说明书

本发明涉及用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质。在一实施方式中，X光机包括发生器和探测器，用于X光机的自动曝光剂量调节方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量Dose_T‑PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EP_T‑PRE；确定探测器端的目标剂量Dose_Target；基于所述探测器端的预曝光剂量Dose_T‑PRE和目标剂量Dose_Target以及所述发生器端的曝光点EP_T‑PRE计算探测器端的曝光点EP_T。本发明提出的自动曝光剂量调节方案耗时短、图像采集帧数少、流程简单、结果准确，同时也降低对发生器性能的要求。

技术领域

本发明涉及医疗器械技术领域，特别是一种用于X光机的自动曝光剂量调节方法和系统及存储介质。

背景技术

目前，具有自动曝光剂量调节的X光机被广泛应用于医疗检查和手术，例如C臂X光机等。通常，X光机基于其发生器来调节曝光剂量，这对发生器的性能提出了较高要求。这样一来，不仅X光机的成本较高，并且通过这种方式实现的曝光剂量调节仍存在一些不足之处，如过程复杂、消耗时间较多、图像采集帧数较多且调节结果偏差较大。

发明内容

有鉴于此，本发明一方面提出了一种用于X光机的自动曝光剂量调节方法，所述X光机包括发生器和探测器，所述方法包括：以选定预曝光参数进行预曝光，获得预曝光图像，基于所述预曝光图像计算所述探测器端的预曝光剂量Dose_T-PRE；根据所述选定预曝光参数计算所述发生器端的曝光点EP_T-PRE；确定探测器端的目标剂量Dose_Target；基于所述探测器端的预曝光剂量Dose_T-PRE和目标剂量Dose_Target以及所述发生器端的曝光点EP_T-PRE计算探测器端的曝光点EP_T。

其中，可以通过如下公式计算所述探测器端的曝光点EP_T：

EP_T＝10lg(Dose_Target/Dose_T-PRE)+EP_T-PRE。

其中，用于X光机的自动曝光剂量调节方法还可以包括：

根据一器官程序设定曝光剂量Dose_OGP和放大系数Z；

其中，可以通过如下公式计算所述探测器端的目标剂量Dose_Target：

Dose_Target＝Dose_OGP*Z。

其中，用于X光机的自动曝光剂量调节方法还可以包括：

计算所述预曝光图像上一感兴趣区域的平均灰度值DEXI；

获取所述探测器的灵敏度FD_sens；

其中，通过如下公式计算所述探测器端的预曝光剂量Dose_T-PRE：

Dose_T-PRE＝DEXI/FD_sens。

本发明另一方面提出了一种计算机存储介质，所述计算机存储介质中存储有程序指令，所述程序指令能够被运行来实现如上所述的任一种方法。