[发明专利]一种新型的显影装置

说明书

本发明公开了一种新型的显影装置，包括承片台，所述承片台的内部中间处贯穿设置有真空吸尘器，所述承片台的一侧外表面固定安装有一号输送管，所述承片台的另一侧外表面固定安装有二号输送管，所述承片台的上端外表面固定安装有掩模，所述掩模的正上方固定安装有喷洒管道，所述喷洒管道的上端外表面一侧设置有去离子水管，所述喷洒管道的上端外表面另一侧设置有显影液管，所述显影液管远离离子水管的一端外表面固定安装有水套。本发明所述的一种新型的显影装置采用掩模旋转与喷头固定的方式，能缩短显影液涂布时间，改善显影液在掩模中心处和边缘处覆盖不均的问题，提高线宽均匀性，带来更好的使用前景。

技术领域

本发明涉及显影装置领域，特别涉及一种新型的显影装置。

背景技术

由于摩尔定律的作用，半导体器件变得越来越小，在晶圆上形成的图案尺寸也随之变小，随着晶圆尺寸的变大和对显影分辨率要求的提升，对于工艺中的条宽均匀性的要求也在提高，由于掩模与晶圆的条宽是一定比例的投影关系，因此对掩模的条宽均匀性的要求也越来越严格。其中显影对线宽均匀性的影响很大，以往的显影方式会造成中心和边缘处显影液覆盖不均匀导致的条宽均匀性较差的问题；现有的显影装置在使用时存在一定的弊端，不能够有效的改善因显影液覆液不均匀导致的条宽均匀性差，无法满足人们的使用需求，给人们的使用过程带来了一定的影响，为此，我们提出一种新型的显影装置。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种新型的显影装置。

为了解决上述技术问题，本发明提供了如下的技术方案：

本发明一种新型的显影装置，包括承片台，所述承片台的内部中间处贯穿设置有真空吸尘器，所述承片台的一侧外表面固定安装有一号输送管，所述承片台的另一侧外表面固定安装有二号输送管，所述承片台的上端外表面固定安装有掩模，所述掩模的正上方固定安装有喷洒管道，所述喷洒管道的上端外表面一侧设置有去离子水管，所述喷洒管道的上端外表面另一侧设置有显影液管，所述显影液管远离离子水管的一端外表面固定安装有水套，所述掩模的上端外表面设置有显影液分散区，所述掩模的底端外表面中间处固定安装有显影喷头。

优选的，所述显影液管的内部均匀分布有显影液，显影液的温度范围为二十一度到二十四度，显影液的反应时间为一百秒到一百五十秒，显影液的浓度为百分之二点三八，显影液的流量为两百升每分钟到两百六升每分钟。

优选的，所述显影喷头的外表面设置有防尘罩，喷淋压力为零点二到零点三兆帕。

优选的，所述承片台的旋转速率为每分钟十到五千转。

优选的，所述一号输送管与二号输送管关于承片台的中间处对称设置，且二号输送管与去离子水管的衔接处设置有连接套管。

优选的，所述数据存储模块、蓝牙模块、抗干扰模块与无线网络连接设备依次竖直排列，所述真空吸尘器的外表面设置有开关按钮，开关按钮的外表面涂有耐磨涂层。

本发明所达到的有益效果是：该新型的显影装置，采用掩模旋转与喷头固定的方式，能缩短显影液涂布时间，改善显影液在掩模中心处和边缘处覆盖不均的问题，提高线宽均匀性，通过设置有真空吸尘器能够有效的对显影设备进行除尘，有效的防止灰尘对显影液造成污染，整个显影装置结构简单，操作方便，使用的效果相对于传统方式更好。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1是本发明一种新型的显影装置的整体结构示意图；

图2是本发明一种新型的显影装置的局部结构示意图；

图3是本发明一种新型的显影装置的俯视图；

图4是本发明一种新型的显影装置图2中A的放大图。