[发明专利]用于污染土浅层搅拌的原位修复方法有效
申请号: | 201810088352.5 | 申请日: | 2018-01-30 |
公开(公告)号: | CN108380658B | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 王蓉;张亚娇;宋晓光;冯凯;李韬;宣霖康 | 申请(专利权)人: | 上海勘察设计研究院(集团)有限公司 |
主分类号: | B09C1/08 | 分类号: | B09C1/08 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人: | 黄明凯;徐小蓉 |
地址: | 200092*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 污染 土浅层 搅拌 原位 修复 方法 | ||
本发明公开了一种用于污染土浅层搅拌的原位修复方法,包括以下步骤:将施工区域在深度方向上划分为上污染土层和下污染土层;在施工区域表面开沟槽进行表面活性剂溶液的灌淋洗土壤;利用挖机挖除上污染土层,并利用浅层原位搅拌设备上的搅拌喷射头在下污染土层中边旋转搅拌污染土边喷射碱性激发剂以将PH值调节至10‑12之间;利用搅拌喷射头在下污染土层中边旋转搅拌污染土边喷射氧化修复药剂以对污染土进行修复;利用挖机回填上污染土层,完成上污染土层中的碱性激发剂和氧化修复药剂的投加和搅拌。本发明的优点是:将化学氧化修复药剂在污染土体中进行分层投加并原位搅拌,从而可保证搅拌混合的均匀性。
技术领域
本发明属于土壤污染治理技术领域,具体涉及一种用于污染土浅层搅拌的原位修复方法。
背景技术
随着我国工业化的快速发展,土壤环境不断遭到各种污染的危害,同时,污染土壤修复治理的需求将越来越大。目前针对污染土样的修复治理技术根据处置场所可分为原位修复与异位修复,原位修复技术因成本低、耗能小、无二次污染,正成为未来修复技术选择的热点。原位修复治理技术主要有热处理、化学氧化法、多相抽提、生物法等,而化学氧化技术见效快、成本可控,已经普遍应用于现场工程修复。原位修复技术根据实施方式分为原位注入和原位搅拌。
原位搅拌修复常采用工程成桩设备进行定点搅拌并注射氧化药剂。该类修复方法常用于深层原位搅拌修复,若用于浅层污染土修复则存在设备灵活度差、工作效率低、处置周期长等问题。同时,大多数原位化学氧化的工程案例多是投加碱性激发剂调节土壤pH达到10~12后,再输送氧化剂进行原位搅拌。此种药剂投加方式常存在土体中氧化剂未完全反应,造成对污染物的去除率低等问题。
发明内容
本发明的目的是根据上述现有技术的不足之处,提供一种用于污染土浅层搅拌的原位修复方法,该原位修复方法根据受污染深度将施工区域划分为上、下两个污染土层,从而实现对施工区域内的污染土体分层次的注药搅拌修复,保证搅拌修复的均匀性。
本发明目的实现由以下技术方案完成:
一种用于污染土浅层搅拌的原位修复方法,其特征在于所述原位修复方法包括以下步骤:(1)将施工区域在深度方向上划分为至少两个搅拌土层,包括上污染土层和下污染土层;(2)在施工区域表面开沟槽,并沿所述沟槽进行表面活性剂溶液的灌淋洗土壤,以渗入深部污染土中增溶;(3)利用挖机挖除所述上污染土层,并利用浅层原位搅拌设备上的搅拌喷射头在所述下污染土层中边旋转搅拌污染土边喷射碱性激发剂以将PH值调节至10-12之间;(4)利用所述搅拌喷射头在所述下污染土层中边旋转搅拌污染土边喷射氧化修复药剂以对污染土进行修复;(5)利用所述挖机回填所述上污染土层,重复步骤(3)和(4),完成所述上污染土层中的所述碱性激发剂和所述氧化修复药剂的投加和搅拌。
所述步骤(1)中,所述上污染土层、所述下污染土层的厚度均为0.5-1.0m。
所述步骤(2)中,所述沟槽的开挖深度为25-35cm;所述表面活性剂为阴非离子表面活性剂,浓度为18-22g/L,其在所述施工区域内的投加量为所述氧化修复药剂在所述施工区域内投加质量的8%-15%。
所述步骤(3)中,所述碱性激发剂为氢氧化钠溶液,浓度为500g/L,所述碱性激发剂在所述上污染土层中的投加质量为所述氧化修复药剂在所述上污染土层中投加质量的8%-15%。
所述步骤(3)中,所述碱性激发剂为氢氧化钠溶液,浓度为500g/L,所述碱性激发剂在所述上污染土层中的投加质量为所述氧化修复药剂在所述上污染土层中投加质量的10%。
所述步骤(4)中,所述氧化修复药剂为过硫酸钠溶液,浓度为400g/L,其投加量为待修复污染土体质量的1%-3%。
所述浅层原位搅拌设备包括具有机械臂的车体,所述机械臂的前端安装有所述搅拌喷射头,所述搅拌喷射头经注药管路与一注药存储泵送装置相连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海勘察设计研究院(集团)有限公司,未经上海勘察设计研究院(集团)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810088352.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。