[发明专利]极紫外光光罩容器

说明书

本发明公开了一种光罩容器，用于容设极紫外光光罩。光罩容器包括外盒总成及内盒总成，外盒总成用以容置内盒总成。内盒总成包括基座以及上盖。基座具有上表面及周缘，上表面设有多个定位件以界定出光罩承载位置。周缘连接并且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。光罩设置于光罩承载位置，以承载在承载面上。沟槽具连续环状结构，底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面内侧朝周缘配置。上盖具有凹腔及第二接面。凹腔用于容纳光罩，第二接面与第一接面配合以形成密封状态。基座上利用连续环状结构的沟槽来捕获或容置微粒，降低微粒移动到承载面与光罩间的机会，减缓光罩被微粒污染的问题。

【技术领域】

本发明涉及一种光罩容器，尤其是一种具双重容纳结构的极紫外光光罩容器。

【背景技术】

近年来半导体制程科技的进步突飞猛进，其中光学微影技术扮演着重要的角色。光学微影技术是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩，再将光罩上的图案通过光源投影至晶圆上，在晶圆上曝光显影出特定的图案。

在光学微影过程中，任何附着在光罩的微粒，例如尘埃、粉尘或有机物等等，都会造成投影成像质量劣化。尤其是近年来的产业趋势是朝向更小、更高逻辑密度的芯片发展，微影设备使用的光波长已经推进到极紫外光(Extreme Ultraviolet Light,EUV)范围，对于光罩上的微粒数量、粒径，以致于容置光罩的光罩容器内的洁净度，都有着更为严苛的要求。

一般而言，半导体制程皆利用抗污染的光罩容器来存放及运输光罩，以保持光罩的洁净度，通常会要求存放光罩或其他半导体组件的容器，其洁净度符合机械标准界面(Standard Mechanical Interface,SMIF)的洁净度要求。然而目前已知的光罩容器，即便是在受控制环境中，会因为空气压力变化，或因容器移动使内部空气发生扰动，导致微粒移动到容器与光罩间，甚至是移动附着至光罩上，无法有效为光罩提供微粒及污染保护

因此，针对上述技术问题，有必要设计一种改良的光罩容器，以克服上述缺陷。

【发明内容】

为了解决前述问题，本发明提供一种极紫外光光罩容器，利用连续环状的沟槽起到捕获或容置微粒的作用，可以降低微粒移动到光罩及承载面间，或者微粒移动到光罩上的机会，降低微粒的污染。

本发明的极紫外光光罩容器，用于容设极紫外光光罩。极紫外光光罩容器包括外盒总成及内盒总成，外盒总成包括相互配合的上部分及下部分，从而界定出容置空间，用于容置内盒总成。内盒总成包括基座及上盖。基座具有上表面及周缘，上表面设有凸出的多个定位件，界定出光罩承载位置。周缘连接且围绕上表面。上表面包括承载面、沟槽及第一接面。极紫外光光罩用于设置于光罩承载位置，从而被承载在承载面上。沟槽具连续环状结构，沟槽的底部低于承载面。承载面、沟槽及第一接面依序由上表面的内侧朝周缘配置。上盖用于与基座对接，并且具有凹腔及第二接面。凹腔用于容纳光罩，第二接面与第一接面相配合，用于形成密封状态。

本发明的具有以下有益的效果：

极紫外光光罩容器的基座上具有连续环状的沟槽，用来捕获或容置微粒，降低微粒污染的问题。

【附图说明】

图1为依照本发明一实施例的极紫外光光罩容器的分解立体图。

图2为第1图中基座的立体图。

图3为第1图中内盒总成及极紫外光光罩的部分侧视剖面图。

图4为第3图中基座上具有阻隔件时的侧视剖面图。

图5为第2图中基座的侧视剖面图。

图6为第1图中上盖的立体图。

图7为第1图中上盖的另一视角的立体图。

图8为依照本发明一实施例的承载面、沟槽及第一接面的示意图。