[发明专利]等离子体连续改性修饰纳米或微米粒子的方法有效
| 申请号： | 201810033785.0 | 申请日： | 2018-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN108249429B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 尹波;杨屹;程旺;杨鸣波 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C01B32/194 | 分类号： | C01B32/194;C01B33/18 |
| 代理公司： | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人： | 刘文娟 |
| 地址： | 610065 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 连续 改性 修饰 纳米 微米 粒子 方法 | ||
【权利要求书】：
1.纳米粒子的表面改性方法，其特征在于，所述纳米粒子为氧化石墨烯，所述纳米粒子的表面改性方法包括如下步骤：
(1)将纳米氧化石墨烯粒子和有机硅氧烷类物质分散至水和乙醇中，配制成混合均匀的稳定分散液；其中，纳米氧化石墨烯粒子与有机硅氧烷类物质的质量比为：纳米氧化石墨烯粒子：有机硅氧烷类物质＝100/50～100/1，分散液中纳米氧化石墨烯粒子的浓度为0.1mg/ml～5mg/ml；
(2)将分散液进行连续雾化形成气溶胶，同时控制形成的气溶胶通过大气压滑动弧等离子体放电区域进行放电处理，从而实现纳米氧化石墨烯粒子的表面改性；其中，等离子体气氛为氮气和氧气的混合气，氮气与氧气的体积比为：氮气：氧气＝9～1：1～9，主气体流量控制为25～30L/min，辅气体流量控制为3L/min～5L/min；采用气动雾化与悬浆雾化相结合的雾化方式；放电电压控制为290V。
2.根据权利要求1所述纳米粒子的表面改性方法，其特征在于，步骤(1)中，所述有机硅氧烷类物质选自：正硅酸乙酯、甲基三乙氧基硅烷、二甲基环硅氧烷、含羟基或胺基的硅氧烷。
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