[发明专利]曝光设备、曝光方法、彩膜基板及其制作方法

说明书

本发明公开了一种曝光设备，其包括可旋转镜，所述可旋转镜将平行光束透过设置于其下方的掩膜板的开口部对基板上的光刻胶进行曝光，其中所述可旋转镜旋转以调节所述平行光束入射到所述掩膜板表面的入射方向。该曝光设备结构简单，易于操作，可在不更换掩膜板的条件下，获得线宽不同的光刻胶图案成为现实，极大的提高了掩膜板的使用效率，降低了在获得不同线宽光刻胶图案时因掩膜板的更换而带来的较高的生产成本。本发明还公开了一种曝光方法、彩膜基板的制作方法及彩膜基板。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域。更具体地，涉及一种曝光设备、曝光方法、彩膜基板及其制作方法。

背景技术

传统的基板在制作的过程中，光刻工艺利用曝光装置将平行光束垂直的透过掩膜板的开口部，对基板上待曝光的光刻胶进行曝光，进一步通过显影形成所需的光刻胶图案。从而，在现有的这种曝光方法中，只能得到一种固定线宽的光刻胶图案，而无法获得不同线宽的光刻胶图案。也即，一种尺寸的光刻胶图案只能对应一个掩膜板，不同尺寸产品之间使用的掩膜板不可以复用。而掩膜板价格昂贵，在项目研发成本中占有极大的比例。

因此，如何低成本形成不同线宽光刻胶图案，是本领域技术人员需要解决的一个重要问题。

发明内容

本发明的目的在于，如何低成本形成不同线宽光刻胶图案。

为此，本发明第一个实施例提供一种曝光设备，包括

可旋转镜，所述可旋转镜将平行光束透过设置于其下方的掩膜板的开口部对基板上的光刻胶进行曝光，其中所述可旋转镜旋转以调节所述平行光束入射到所述掩膜板表面的入射方向。

优选地，所述曝光设备还包括

光源，出射光束；

平面镜，将所述出射光束反射；

蝇眼透镜，接收所述平面镜反射的出射光束；以及

凹面镜，将从蝇眼透镜出射的光束形成所述平行光束并将所述平行光束入射到所述可旋转镜。

优选地，所述开口部为相对于掩膜板的表面的竖直开口，并且

所述可旋转镜旋转以将所述平行光束相对于所述掩膜板表面的入射方向调节为竖直，得到第一线宽的光刻胶图案；

所述可旋转镜旋转以将所述平行光束相对于所述掩膜板表面的入射方向调节为倾斜，得到第二线宽的光刻胶图案，其中第一线宽大于第二线宽。

优选地，所述开口部为相对于掩膜板表面的倾斜开口，且所述倾斜开口的相对倾斜侧壁设置为相互平行；并且

所述可旋转镜旋转以将所述平行光束相对于所述掩膜板表面的入射方向调节与所述开口的倾斜方向趋势相同，得到第三线宽的光刻胶图案；

所述可旋转镜旋转将所述平行光束的入射方向相对于所述掩膜板的表面调节为竖直，得到第四线宽的光刻胶图案；

所述可旋转镜旋转以将所述平行光束相对于所述掩膜板表面的入射方向与所述开口的倾斜方向趋势相反，得到第五线宽的光刻胶图案，

其中第三线宽大于第四线宽，第四线宽大于第五线宽。

本发明第二个实施例提供一种曝光方法，包括

使平行光束透过掩膜板的开口部对基板上的光刻胶进行曝光，其中，所述平行光束相对于所述掩膜板表面的入射方向能够被调节，以使得被曝光的光刻胶图案的线宽能够被调节。

优选地，光源出射光束；

平面镜将所述出射光束反射；

蝇眼透镜接收所述平面镜反射的出射光束；