[其他]用于探测在材料流中的对象的装置

权利要求书

1.用于探测在材料流中的对象的装置，所述装置至少包括：

光源，所述光源用于将在第一发送波长范围内和在第二发送波长范围内的光发射到材料流上，该第二发送波长范围与第一发送波长范围不同，

第一探测器(1)，所述第一探测器用于探测对象的由在第一发送波长范围内的光引起的、在第一探测波长范围内的反射光、荧光或者透射光，

第二探测器(2)，所述第二探测器与第一探测器(1)不同，该第二探测器用于探测对象的由在第二发送波长范围内的光引起的、在第二探测波长范围内的反射光、荧光或者透射光，

其特征在于，

所述第一探测器(1)与光源连接，以便控制所述第一发送波长范围的光强度，和/或所述第二探测器(2)与光源连接，以便控制所述第二发送波长范围的光强度。

2.根据权利要求1所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述光源包括至少一个超连续谱激光光源，该超连续谱激光光源构造用于发射在第一发送波长范围内和在第二发送波长范围内的光，该第二发送波长范围不与所述第一发送波长范围重叠。

3.根据权利要求1所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述光源不仅包括第一光源(4)而且包括第二光源(5)，所述第一光源用于发射仅在第一发送波长范围内的光，所述第二光源用于发射仅在第二发送波长范围内的光，以及

所述第一探测器(1)与第一光源(4)连接，以便控制第一光源的光强度，和/或所述第二探测器(2)与第二光源(5)连接，以便控制第二光源的光强度。

4.根据权利要求3所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，第一光源(4)和第二光源(5)在所述装置的运行中处于对象(9)的材料流的相同侧上。

5.根据权利要求1所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一探测器(1)和/或所述第二探测器(2)通过分析装置(11)与光源连接，该分析装置设置用于分析第一探测器(1)和第二探测器(2)的信号并且用于确定探测到的对象(9)的至少一个特性。

6.根据权利要求1所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一发送波长范围包含红外光(7)，并且所述第二发送波长范围包含可见光(8)。

7.根据权利要求6所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一发送波长范围包含近红外光。

8.根据权利要求3所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一光源(4)构造用于发射红外光(7)。

9.根据权利要求3所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一光源(4)构造用于发射近红外光。

10.根据权利要求3所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一光源(4)包括至少一个卤素光源。

11.根据权利要求10所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一光源(4)包括卤素手电筒。

12.根据权利要求3所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第二光源(5)包括至少一个用于发射可见光(8)的LED光源。

13.根据权利要求1所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一探测器(1)是用于红外光(7)的探测器并且包括用于红外光(7)的摄谱仪。

14.根据权利要求13所述的用于探测在材料流中的对象的装置，其特征在于，所述第一探测器(1)是用于近红外光的探测器。