[发明专利]用于生成密钥的设备和方法

权利要求书

1.一种用于生成密钥的设备，包括：

多模干涉仪，能够与光源耦合并且包括光路，所述光路包括具有能够受控制的折射率的材料，所述光路被配置为在输入侧获取光，并且在所述材料的局部变化的折射率的影响下影响所述光，以便在输出侧提供受影响的光；

接收装置，被配置为在所述输出侧接收所述受影响的光；以及

评估装置，被配置为基于所述受影响的光来执行评估，并基于所述评估来生成所述密钥；

电极布置，被配置为基于所述电极布置的局部变化的电场产生所述局部变化的折射率；

其中，所述接收装置包括光电检测器阵列，并且所述评估装置被配置为：针对每个光电检测器执行关于在相应光电检测器中检测到的量要被转换为二进制0还是二进制1的阈值判定，并通过排列所述阈值判定来获得位序列作为所述密钥。

2.根据权利要求1所述的设备，被配置为基于所述局部变化的折射率获取对所述光的局部变化的影响。

3.根据权利要求1所述的设备，包括光源，所述光源连接到所述光路并被配置为发射光。

4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述光源是窄带光源。

5.根据权利要求3所述的设备，其中，所述光源包括激光器或滤波器。

6.根据权利要求1所述的设备，其中，所述接收装置包括滤波器，所述滤波器被配置为对所述受影响的光进行滤波并且在所述滤波器输出处提供窄带滤波光，所述评估装置被配置为基于所述窄带滤波光执行所述评估。

7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述评估装置被配置为确定所述受影响的光或滤波光的局部强度分布，并且基于所述局部强度分布来生成所述密钥。

8.根据权利要求7所述的设备，其中，所述评估装置被配置为在所述光路的全部区域中的互不相同的子区域中执行局部强度分布，其中所述密钥包括多个密钥部分，每个密钥部分与所述子区域相关联。

9.根据权利要求1所述的设备，其中，所述电极布置包括多个在空间上分离的电极元件，所述电极元件被配置为以在空间上分离的方式影响所述材料的折射率；以及所述设备包括驱动装置，所述驱动装置被配置为驱动所述电极元件，使得所述受影响的光中的样式与受驱动电极的每个样式明确地相关联。

10.根据权利要求1所述的设备，其中，所述电极布置包括以二维阵列布置的多个在空间上分离的电极元件，其中，关于影响通过所述光路导引的光，所述电极形成为相对于所述二维阵列的至少一个方向不对称。

11.根据权利要求10所述的设备，被配置为：通过相互不同的电极几何形状和/或通过所述电极元件上相互不同的电压，相对于所述二维阵列的至少一个方向，产生对通过所述光路导引的光的不对称影响。

12.根据权利要求1所述的设备，其中，所述电极布置包括多个在空间上分离的电极元件，所述电极元件布置成二维阵列的行和列；

其中，一行内的电极包括沿着行方向的在所述行内明确的互不相同的尺寸；和/或

其中，一列内的电极包括沿着列方向的在所述列内明确的互不相同的尺寸。

13.根据权利要求12所述的设备，其中，沿所述行方向的任意两个相邻电极的尺寸的商包括均一的商值；和/或

其中，沿所述列方向的任意两个电极的尺寸的商包括所述均一的商值。

14.根据权利要求13所述的设备，其中，所述商值包括在至少1.5且至多10的值的范围内的值。