[发明专利]介质谐振器及滤波器有效

专利信息
申请号: 201780095611.0 申请日: 2017-11-14
公开(公告)号: CN111164827B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 石晶;蒲国胜 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01P7/10 分类号: H01P7/10
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 熊永强;李稷芳
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 介质 谐振器 滤波器
【说明书】:

本申请提供一种介质谐振器,包括置于中空的导电外壳内的介质主体,所述介质主体包括相对设置的第一端面和第二端面,以及连接在所述第一端面和所述第二端面之间的周面,所述第一端面设有第一凹槽,所述第二端面设有第二凹槽,所述第一端面和所述第二端面与所述导电外壳的内壁接触,所述第一凹槽和所述第二凹槽的延伸方向不同。本申请还提供一种滤波器。本申请能够实现介质谐振器的单面安装,不但实现小型化目标,还便于装配,且通过第一凹槽和第二凹槽的延伸方向的不同能够增强各谐振模式之间的耦合。

技术领域

发明涉及滤波器,特别涉及应用在滤波器中的介质谐振器。

背景技术

随着无线通讯技术的发展以及降低环境污染的绿色基站概念的提出,对射频模块的小型化需求与日俱增,滤波器作为射频模块的重要组成部分,在高性能、小型化领域的作用举足轻重,介质滤波器具有小型化、高性能的特点,受到越来越多的关注,在满足当前指标的情况下,体积小型化,便于安装,是对无线基站滤波器的典型需求。

发明内容

本发明实施例提供了一种便于安装的介质谐振器。

一方面,本发明提供了一种介质谐振器,包括置于中空的导电外壳内的介质主体,所述介质主体包括相对设置的第一端面和第二端面,以及连接在所述第一端面和所述第二端面之间的周面,所述第一端面设有第一凹槽,所述第二端面设有第二凹槽,所述第一端面和所述第二端面与所述导电外壳的内壁接触,所述第一凹槽和所述第二凹槽的延伸方向不同。

本申请通过第一端面和第二端面均接触导电壳体内壁的方式,实现介质谐振器的第一端面和第二端面的接地,进而能够实现单面安装,便于装配。由于介质谐振器的介质主体与导电外壳内壁直接接触,使得介质主体和导电外壳之间结构更紧凑,没有过多的中空空间,因此,本申请能实现滤波器小型化目标。本申请通过第一凹槽和第二凹槽的设置形成不同的电磁场的谐振模式,通过第一凹槽和第二凹槽的延伸方向的不同能够调节各谐振模式之间的耦合系数。

一种实施方式中,所述第一端面和所述第二端面与所述导电外壳接触的面上设有导电层。第一凹槽和第二凹槽的内壁为介质表面,不被导电层覆盖。

一种实施方式中,所述第一凹槽和所述第二凹槽的延伸方向相互垂直。这种情况下,形成两个频率相近的谐振模式,两种谐振模式之间没有耦合或耦合强度很小。本申请所述的相互垂直,包含垂直或者接近垂直的状态,例如:本申请所述的垂直可以包含夹角为大于等于80度且小于等于90度的任意值的情况。

一种实施方式中,所述介质主体具有中心轴,所述中心轴落在所述第一端面的中心与所述第二端面的中心的连线上,所述中心轴穿过所述第一凹槽和所述第二凹槽。

一种实施方式中,通过所述第一凹槽和所述第二凹槽的设置,在所述周面上形成缺口。在周面上形成缺口是指第一凹槽和第二凹槽穿过周面,本实施方式通过第一凹槽和第二凹槽穿过周面能够形成两个正交的谐振模式。

具体而言,所述缺口包括第一缺口、第二缺口、第三缺口和第四缺口,所述第一缺口和所述第二缺口分别形成所述第一凹槽的两端,所述第三缺口和所述第四缺口分别形成在所述第二凹槽的两端。

一种实施方式中,所述介质主体包括位于所述第一凹槽内的第一侧壁、第二侧壁和连接在所述第一侧壁和所述第二侧壁之间的第一底壁,所述第一侧壁、所述第二侧壁和所述第一底壁均呈平面状。本实施方式中,第一凹槽可以为长方体形状的槽,或者第一凹槽的截面也可以为梯形或者其他形状,以便可以通过机械加工的方式形成第一凹槽。可选的,第二凹槽与第一凹槽的形状可以相同。

一种实施方式中,所述介质主体包括位于所述第一凹槽内的第一侧壁、第二侧壁和连接在所述第一侧壁和所述第二侧壁之间的第一底壁,所述第一侧壁、所述第一底壁和所述第二侧壁依次连接形成光滑连续延伸的弧面。本实施方式中,第一凹槽呈柱面状,可以通过模具制备,便于加工。

一种实施方式中,所述介质主体的所述周面呈圆柱面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780095611.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top