[发明专利]高分子化合物的制造方法

权利要求书

1.一种高分子化合物的制造方法，其为包含下述式(1)所示的重复单元的高分子化合物的制造方法，

该制造方法包括在包含钯催化剂和碱的反应溶剂中使下述式(2)所示的化合物和下述式(3)所示的化合物进行反应的工序，

所述反应溶剂包含：

至少1种作为烃溶剂的第1溶剂；

仅由至少1个碳原子、至少1个氢原子以及至少1个氧原子构成的至少1种作为有机溶剂的第2溶剂；以及

水，

相对于所述第1溶剂的体积、所述第2溶剂的体积以及所述水的体积的合计，水的体积比例大于10体积％且小于100体积％，

所述第2溶剂为不与水混合的溶剂，

式(1)中，

Ar^A表示2价芳香族烃基或2价芳香族杂环基，

Ar^B表示下述式(B-3)所示的2价基团、下述式(B-1)所示的2价基团或下述式(B-2)所示的2价基团，

式(B-3)中，

Z’为下述式(Z’-1)～(Z’-3)中任一者所示的基团，

式(Z’-1)～(Z’-3)中，R各自独立地表示氢原子或取代基，

式(B-1)中，

Z为下述式(Z-1)～(Z-8)中任一者所示的基团，

式(Z-1)～(Z-8)中，R各自独立地表示氢原子或取代基，

式(B-2)中，

R各自独立地表示氢原子或取代基，

p表示0或1，

W¹和W²各自独立地表示碳原子或硫原子，其中，W¹为碳原子时W²为硫原子，W¹为硫原子时W²为碳原子，

X¹-Ar^A-X²....(2)

式(2)中，

X¹和X²各自独立地表示氯原子、溴原子或碘原子，

Ar^A表示与式(1)中的Ar^A同义，

Y¹-Ar^B-Y²....(3)

式(3)中，

Y¹和Y²各自独立地表示包含1个硼原子和至少2个氧原子的1价基团，

Ar^B表示与式(1)中的Ar^B同义。

2.如权利要求1所述的高分子化合物的制造方法，其中，Ar^A为下述式(Cy-1)～式(Cy-5)中任一者所示的基团，

式(Cy-1)～(Cy-5)中，

R各自独立地表示氢原子或取代基，

R¹和R²各自独立地表示氢原子或取代基，

R¹和R²可以相互连结并与它们所结合的碳原子一起形成环状结构，

环Cy相同或不同，表示具有或不具有取代基的芳香环，

R³表示2价基团。

3.如权利要求1所述的高分子化合物的制造方法，其中，Ar^B为上述式(B-3)所示的2价基团。

4.如权利要求1所述的高分子化合物的制造方法，其中，Ar^B为上述式(B-1)所示的2价基团或上述式(B-2)所示的2价基团。

5.如权利要求4所述的高分子化合物的制造方法，其中，Ar^B为上述式(B-1)所示的2价基团。

6.如权利要求1所述的高分子化合物的制造方法，其中，所述第2溶剂为选自由醇溶剂、酮溶剂以及醚溶剂组成的组中的1种以上。