[发明专利]光学布置、特别是光刻系统有效
申请号: | 201780087714.2 | 申请日: | 2017-11-13 |
公开(公告)号: | CN110383174B | 公开(公告)日: | 2022-05-31 |
发明(设计)人: | B.盖尔里希;R.兹韦林;C.塞维奥尔;M.埃拉思;J.普罗希瑙;M.内夫齐;V.库利茨基;A.洛伦兹;S.沙夫 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B26/08;G02B5/08;G02B7/00;G02B7/182;G02B7/198;G03B27/42;G21K1/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 布置 特别是 光刻 系统 | ||
本发明涉及光学布置,特别是光刻系统(1),其包括:特别是反射镜(3)的可移动部件,移动部件(3)的至少一个致动器(4),以及具有限制部件(3)的移动的邻接表面(12)的至少一个邻接件(6)。光学布置包括在邻接件(6)上或多个邻接件上,以在相同移动方向(+X、‑X、‑Y、+Y)上限制可移动部件(3)的移动的至少两个邻接表面,该邻接表面特别是配备为施加于可移动部件(3)的相同侧,和/或光学布置包括相对于可移动部件(3)移动邻接件(6)的至少一个其他致动器(9)以及确定邻接件(6)的邻接表面(12)和可移动部件(3)之间的距离(A)的至少一个距离传感器(13)。光学布置还可以包括反射镜(3)形式的减少重量的可移动部件。
本申请要求于2017年1月17日提交的德国专利申请DE 10 2017 200 635.8的优先权,其全部公开内容通过引用并入本申请的内容。
本发明涉及光学布置,例如涉及光刻系统,特别是EUV光刻系统,其包括:特别是反射镜的可移动部件,移动部件的至少一个致动器,和具有限制部件的移动的止挡面的至少一个止挡件。
出于本申请的目的,光刻系统被认为意味可以用在光刻领域中的光学系统或光学布置。除了光刻设备,其用于制造半导体部件,光学系统例如可以是检验光刻设备中所使用的光掩模(在下文中还称为掩模母版)的检验系统,以检验要结构化的半导体基板(在下文中还称为晶片),或者可以是度量系统,其用于测量光刻设备或其部分,例如测量投射系统。光学布置或光刻系统可以特别是EUV光刻系统,其设计为所使用的辐射在约5nm和约30nm之间的EUV波长范围中的波长处。
DE 10 2012 212 503 A1公开了光刻设备,其具有第一部件和第二部件以及耦接设备,以便使第一部件和第二部件彼此耦接。光刻设备具有感测装置,以感测其上支撑光刻设备的基底的移动,并且还具有开环控制装置,其设计为取决于感测的基底的移动来致动耦接装置以便限制第二部件相对于第一部件的移动。出于该目的,耦接装置可以具有至少一个可调整的终端止挡件。可调整的终端止挡件可以与具有反射镜形式的第二部件邻接接触,以便产生反射镜相对于力框架形式的第一部件的形式匹配的固定。该固定旨在于在震动的事件中或由于地震的颤动的事件中避免损坏反射镜。
DE 10 2011 087 389 A1描述了具有用于例如反射镜的部件的止挡件的定位系统,其中止挡件限制了部件的移动的路径并且可调整地设计。止挡件的可调整性旨在于使得反射镜的移动区域尽可能扩大的同时最小化止挡件和反射镜之间的间隙宽度。可以提供开环和/或闭环控制装置,利用其以开环和/或闭环方式控制止挡件的再定位,其中特别地致动器的止挡面和部件之间的距离的最佳范围被指定或者止挡件被再定位使得部件与止挡面的距离保持在预先定义的范围内。最佳距离范围可以在5微米和15微米之间。
本发明的目的为提供一种光学布置,特别是光刻设备,其中抵消了可移动部件在颤动的事件下的损坏。
发明内容
该目的根据第一方面通过在背景部分所提及类型的光学布置来实现,其还包括:至少一个其他致动器,以相对于可移动部件移动止挡件;以及至少一个距离传感器,以确定在止挡件的止挡面和可移动部件之间的距离。
如在背景部分引入的DE 10 2011 087 389 A1中所描述的,有利的是,在可移动部件和止挡件(更明确地说其止挡面)之间的距离保持在相对于可移动部件的预先定义的距离范围内。在可移动部件和止挡件之间的间隙有利于防止振动从止挡件传输到可移动部件中,例如到反射镜中。发明人已经认识到,如果可移动部件到止挡件的止挡面的的自由轨迹尽可能短,则可以最小化可移动部件的不受控制的加速或动能。
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