[发明专利]馈通设备和信号导体路径装置有效

专利信息
申请号: 201780086985.6 申请日: 2017-12-07
公开(公告)号: CN110326176B 公开(公告)日: 2022-01-21
发明(设计)人: J·P·斯普伦格斯;C·奥滕 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H02G3/22 分类号: H02G3/22
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 设备 信号 导体 路径 装置
【权利要求书】:

1.一种馈通设备(50;150),用于在多个信号导体(61;161)周围形成气密密封,所述信号导体彼此并排延伸以形成具有组宽度的信号导体组(60;160),其中所述馈通设备包括:

-开槽构件(52;152),由第一表面(53;153)、第二表面(54;154)以及侧表面(55,56;155,156)界定,所述第一表面(53;153)主要面向馈通方向(X),所述第二表面(54;154)主要背对所述馈通方向,所述侧表面(55,56;155,156)互连所述第一表面和所述第二表面、并且在不平行于所述馈通方向的方向上朝外面对;

-具有孔(65)的基部(62;162),所述孔(65)沿着所述馈通方向完全延伸穿过所述基部,其中所述孔被适配为容纳所述开槽构件;

其中所述开槽构件还包括至少一个狭槽(58;158),所述至少一个狭槽(58;158)沿着所述馈通方向延伸穿过所述开槽构件,并且通向所述第一表面和所述第二表面,以允许所述信号导体组从所述第一表面穿过所述开槽构件到达所述第二表面,其中所述狭槽沿着所述侧表面进一步通向纵向开口(59;159),并且沿着深度方向(Z;Y)从所述侧表面延伸到所述开槽构件中直到狭槽深度(ΔZs;ΔYsa),所述深度方向横向于所述馈通方向,其中所述狭槽深度等于或大于所述组宽度,

其中所述基部(62;162)限定直接围绕所述孔(65)的内表面(66),其中所述内表面(66)在被容纳在所述孔中时覆盖所述侧表面(55,56;155,156)的至少一部分和所述开槽构件(52;152)的纵向开口(59;159);并且

其中当所述开槽构件(52;152)被容纳在所述孔中时,所述开槽构件(52;152)的第一表面(53;153)相对于直接围绕所述孔(65)的所述基部的表面(63;163)沿着所述馈通方向(X)凹陷,使得至少所述开槽构件的所述第一表面和所述基部的所述内表面(66)形成容器(69),所述容器(69)能够容纳密封体(71;171)。

2.根据权利要求1所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的所述侧表面(55,56;155,156)具有类似于体育场或圆角矩形的横截面形状,并且其中围绕所述孔的所述基部的所述内表面(66)具有被适配为以形状配合的方式容纳所述开槽构件的横截面形状。

3.根据前述权利要求中任一项所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的所述侧表面(55,156;155,156)限定平坦表面部分(57),所述平坦表面部分(57)以平移对称的方式沿着垂直于所述馈通方向(X)的方向(Y)延伸,其中所述纵向开口(59;159)位于所述平坦表面部分处,并且其中所述至少一个狭槽(58;158)沿着所述深度方向延伸,并且垂直于所述平坦表面部分延伸到所述开槽构件中。

4.根据权利要求1或2所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的所述侧表面(55,56;155,156)限定第一侧表面区段(55;155),所述第一侧表面区段(55;155)沿着所述馈通方向朝向轴线(A1)向内锥化,并且其中所述基部(62;162)的所述内表面与所述第一侧表面区段相一致地向内锥化。

5.根据权利要求4所述的馈通设备(50;150),其中所述开槽构件的侧表面(55,56;155,156)包括第二侧表面区段(56;156),所述第二侧表面区段(56;156)沿着所述馈通方向(X)朝向所述轴线(A1)、但是与所述第一侧表面区段(55;155)相对地向内锥化,和/或其中所述基部(62;162)的所述内表面包括远离所述轴线向外锥化的内表面区段,使得所述第二侧表面区段和/或所述内表面区段限定向内周边凹槽(70;170),所述向内周边凹槽(70;170)直接邻接所述开槽构件中的至少一个所述纵向开口,所述凹槽被配置成容纳所述密封体(71;171)的一部分。

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