[发明专利]基于磁场检测进行操作的多维成像传感器在审
申请号: | 201780069661.1 | 申请日: | 2017-09-13 |
公开(公告)号: | CN109982641A | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 斯科特·大卫·克拉维茨;列昂尼德·哈图茨基;詹姆斯·保罗·弗雷里奇斯;阿德里安·大卫·弗伦奇;凯尔·艾伦·皮克斯顿 | 申请(专利权)人: | 登塔尔图像科技公司 |
主分类号: | A61B6/14 | 分类号: | A61B6/14;A61B6/00;A61B5/01;G01L7/00;G01J3/28;G01P15/00;G01R33/02;G01T1/16;G01R31/02;G06F1/32;G06F3/01;H01H35/14;H01H36/00;H01 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李兰;孙志湧 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像传感器 磁场 口腔 电子处理器 磁力计 匹配 容纳 图像感测部件 低功率状态 成像系统 磁场检测 存储隔室 多维成像 响应 传感器 输出 | ||
1.一种成像系统,其包括:
口腔内成像传感器,所述口腔内成像传感器包含外壳、至少部分地容纳在所述外壳内的图像感测部件,以及至少部分地容纳在所述外壳内的磁力计;
电子处理器,所述电子处理器被配置成
接收所述磁力计的输出,所述输出指示冲击所述口腔内成像传感器的实际磁场,
将基于所述磁力计的所述输出的指示所述实际磁场的数据与指示第一预期磁场的数据进行比较,以及
响应于基于所述比较确定所述实际磁场与所述第一预期磁场匹配而更改所述成像系统的操作。
2.根据权利要求1所述的成像系统,其中,指示所述实际磁场的所述数据包含实际量值和实际向量方向,并且其中指示所述第一预期磁场的所述数据包含第一预期量值和第一预期向量方向。
3.根据权利要求2所述的成像系统,其中,所述电子处理器被配置成通过以下步骤将指示所述实际磁场的所述数据与指示所述第一预期磁场的所述数据进行比较
将所述实际量值与所述第一预期量值进行比较,以及
将所述实际向量方向与所述第一预期向量方向进行比较。
4.根据权利要求2所述的成像系统,其中,所述电子处理器被配置成当所述实际量值在所述第一预期量值的第一所定义容差内并且所述实际向量方向在所述第一预期向量方向的第二所定义容差内时确定所述实际磁场与所述第一预期磁场匹配。
5.根据权利要求1所述的成像系统,其中指示所述第一预期磁场的所述数据包含指示当所述口腔内成像传感器置于成像传感器存储隔室中时由定位在所述成像传感器存储隔室近侧的永磁体施加的磁场的数据。
6.根据权利要求5所述的成像系统,其中,所述电子处理器被配置成当所述实际磁场与所述第一预期磁场匹配时确定所述口腔内成像传感器置于所述成像传感器存储隔室中。
7.根据权利要求6所述的成像系统,其中,所述电子处理器被配置成响应于确定所述实际磁场与所述第一预期磁场匹配而更改所述成像系统的所述操作,方式是:响应于确定所述口腔内成像传感器置于所述成像传感器存储隔室中而以低功率状态操作所述口腔内成像传感器。
8.根据权利要求5所述的成像系统,其中,所述电子处理器进一步被配置成:
基于所述磁力计的所述输出确定所述实际磁场何时不再与所述第一预期磁场匹配;
当所述实际磁场不再与所述第一预期磁场匹配时,确定所述口腔内成像传感器已从所述成像传感器存储隔室移除;以及
响应于确定所述口腔内成像传感器已从所述成像传感器存储隔室移除而进一步更改所述成像系统的所述操作。
9.根据权利要求8所述的成像系统,其中,所述电子处理器被配置成响应于确定所述口腔内成像传感器已从所述成像传感器存储隔室移除而更改所述成像系统的所述操作,方式是:使所述口腔内成像传感器的操作转变离开低功率状态。
10.根据权利要求1所述的成像系统,其中,指示所述第一预期磁场的所述数据包含指示当所述口腔内成像传感器选择性地联接到第一传感器定位器时由所述第一传感器定位器的永磁体施加的磁场的数据。
11.根据权利要求10所述的成像系统,其中,所述电子处理器被配置成响应于确定所述实际磁场与所述第一预期磁场匹配而更改所述成像系统的操作,方式是:响应于确定所述口腔内成像传感器选择性地联接到所述第一传感器定位器而装备所述图像感测部件。
12.根据权利要求10所述的成像系统,其中,所述电子处理器被配置成响应于确定所述口腔内成像传感器选择性地联接到所述第一传感器定位器而根据所述第一传感器定位器的使用更改所述成像系统的操作。
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