[发明专利]具有具备增强功能性的集成型计量工具的光刻系统在审

专利信息
申请号: 201780069251.7 申请日: 2017-08-21
公开(公告)号: CN109923480A 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: E·阿米特;R·弗克维奇;L·叶鲁舍米 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘丽楠
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 计量工具 计量测量 集成型 打印 光刻系统 过程参数 优化 额外操作 过程控制 时间限制 增强性能 配方 分组 监测 景观 分配
【权利要求书】:

1.一种光刻系统,其包括:

打印工具,其具有集成型计量工具,及

独立计量工具,其经连接到所述打印工具并且经配置以对由所述打印工具产生的晶片执行计量测量,

其中所述光刻系统进一步包括将所述集成型计量工具与所述独立计量工具连接的监测通道,且所述集成型计量工具进一步经配置以在所述集成型计量工具与所述独立计量工具之间分配计量测量,并且关于所述打印工具的指定时间限制来监测所述分配及所述计量测量。

2.根据权利要求1所述的光刻系统,其中所述监测包括根据所述指定时间限制来调整计量测量配方。

3.根据权利要求1所述的光刻系统,其进一步包括优化通道,所述优化通道将所述集成型计量工具与经配置以优化用于所述光刻系统的计量测量配方的计量工具连接。

4.根据权利要求1所述的光刻系统,其中所述计量工具是所述独立计量工具。

5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的光刻系统,其进一步包括过程控制通道,所述过程控制通道将所述集成型计量工具与经配置以优化所述打印工具的过程参数的过程控制软件连接。

6.根据权利要求1到5中任一权利要求所述的光刻系统,其进一步包括分组通道,所述分组通道将所述集成型计量工具与经配置以根据计量测量景观来对所述打印工具的过程参数进行分组的分组模块连接。

7.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的光刻系统,其进一步包括分组通道,所述分组通道将所述独立计量工具与经配置以根据计量测量景观来对所述打印工具的过程参数进行分组的分组模块连接。

8.根据权利要求6或7所述的光刻系统,其中所述计量测量景观是由相应计量工具导出的至少一个计量度量对至少一个配方参数的至少部分连续相依性。

9.一种方法,其包括通过光刻打印工具的集成型计量工具关于所述打印工具的指定时间限制来分配及监测通过所述集成型计量工具及独立计量工具的计量测量。

10.根据权利要求9所述的方法,其中所述监测包括根据所述指定时间限制来调整(优化)计量测量配方。

11.根据权利要求9或10所述的方法,其进一步包括基于通过至少所述集成型计量工具的计量测量而通过过程控制软件来优化所述打印工具的过程参数。

12.根据权利要求9到11中任一权利要求所述的方法,其进一步包括根据计量测量景观来对所述打印工具的过程参数进行分组。

13.根据权利要求12所述的方法,其进一步包括通过至少所述集成型计量工具来导出所述计量测量景观。

14.根据权利要求9到13中任一权利要求所述的方法,其至少部分由计算机处理器实行。

15.一种包括具有用其体现的计算机可读程序的非暂时性计算机可读存储媒体的计算机程序产品,所述计算机可读程序经配置以实行根据权利要求9到13中任一权利要求所述的方法。

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