[发明专利]水处理装置及水处理方法

权利要求书

1.一种水处理装置，该水处理装置具备：

第1电极及第2电极，它们被收容于水处理部、被具有电绝缘性且可通过液体的间隔件隔开配置；

电源部，其与配置于所述水处理部的两端的一对集电体连接、经由所述一对集电体在所述第1电极及所述第2电极之间施加电压而使从所述水处理部的一方经由流入口供给的被处理水中所含的离子在所述第1电极及所述第2电极被吸附除去来进行脱盐处理、生成脱盐处理水；和

清洗水供给泵，其从所述水处理部的另一方使清洗水流通到所述水处理部的一方来清洗所述第1电极及所述第2电极，

其特征在于，所述第1电极及所述第2电极各自包含可流动的多个粒状电极构件，所述流入口设置有防止所述粒状电极构件从所述水处理部流出的防止流出构件。

2.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，所述水处理部具备：挤压所述第1电极及所述第2电极的挤压部。

3.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，具备：向所述清洗水供给添加剂的添加剂供给部、和决定是否将所述添加剂添加于所述清洗水的控制部。

4.根据权利要求3所述的水处理装置，其特征在于，具备：贮存所述脱盐处理水作为清洗水的反清洗用水槽。

5.根据权利要求4所述的水处理装置，其特征在于，所述添加剂供给部将添加剂供给到在所述反清洗用水槽中贮存的所述清洗水。

6.根据权利要求5所述的水处理装置，其特征在于，所述添加剂供给部具备多个添加剂保管槽，所述多个添加剂保管槽保管相互不同的种类的添加剂。

7.根据权利要求5所述的水处理装置，其特征在于，所述添加剂供给部被设置于将所述水处理部与所述清洗水供给泵连接的配管。

8.根据权利要求3所述的水处理装置，其特征在于，所述添加剂供给部生成添加剂、从设置于所述水处理部的添加剂注入口直接注入。

9.根据权利要求8所述的水处理装置，其特征在于，在所述水处理部设置有多个添加剂注入口。

10.根据权利要求3-9中任一项所述的水处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述被处理水的电导率与所述脱盐处理水的电导率之差除以所述被处理水的电导率所得的离子除去率来决定是否在所述清洗水中添加所述添加剂。

11.根据权利要求3-9中任一项所述的水处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述脱盐处理水的离子浓度来决定是否在所述清洗水中添加所述添加剂。

12.根据权利要求3-9中任一项所述的水处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述脱盐处理水的硬度来决定是否在所述清洗水中添加所述添加剂。

13.根据权利要求3-9中任一项所述的水处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述脱盐处理的实施中在所述水处理部流动的电流的电流值来决定是否在所述清洗水中添加所述添加剂。

14.根据权利要求3-9中任一项所述的水处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述脱盐处理结束时的所述水处理部的两端间的电压值来决定是否在所述清洗水中添加所述添加剂。

15.根据权利要求3-9中任一项所述的水处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述脱盐处理结束后的放电时的所述水处理部的两端间的电压下降来决定是否在所述清洗水中添加所述添加剂。

16.根据权利要求3-9中任一项所述的水处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述脱盐处理结束时的所述水处理部的压力损失来决定是否在所述清洗水中添加所述添加剂。