[发明专利]玻璃基板的制造方法

说明书

一种玻璃基板的制造方法，其在将从搬入口(8aa)搬入到腔室(8)内的玻璃基板(2)以平放姿势沿着搬运路径搬运的同时，利用配置在搬运路径上的处理器(5)所供给的处理气体(4)对该玻璃基板的下表面(2a)实施蚀刻处理，之后将处理后的玻璃基板(2)从搬出口(8ab)向腔室(8)外搬出，其中，从配置在腔室(8)内的比搬运路径靠上方侧的吸引口(12a)向腔室(8)外进行排气。

技术领域

本发明涉及包含如下工序的玻璃基板的制造方法，在该工序中，在将玻璃基板以平放姿势搬运的同时，利用氟化氢等处理气体对玻璃基板的下表面实施蚀刻处理。

背景技术

众所周知，玻璃基板用于以液晶显示器、等离子显示器、有机EL显示器、场发射显示器等所代表的平板显示器、智能手机、平板型PC等移动终端为首的各种各样的电子设备。

在该玻璃基板的制造工序中，有时产生因静电引起的问题。举出一例，在为了对玻璃基板实施规定的处理而载置于支承台上时，有时因静电而导致玻璃基板粘贴在支承台上。在这样的情况下，在将结束处理后的玻璃基板从支承台抬起时，有时玻璃基板会破损。

对此，作为这种问题的对策，已知有如下的方法：在实施规定的处理之前，利用氟化氢等处理气体对玻璃基板的表面实施蚀刻处理，使表面粗糙化，由此来避免产生因静电引起的问题。而且，在专利文献1中公开了用于对玻璃基板的表面实施蚀刻处理的方法的一例。

在该文献所公开的方法中，在将玻璃基板以平放姿势搬运的同时，利用在其搬运路径上配置的处理器(该文献中为表面处理装置)所供给的处理气体，对玻璃基板的上下表面中的下表面实施蚀刻处理。

需要说明的是，虽然在该文献中未明示，但在执行蚀刻处理的情况下，为了防止处理气体向外部漏出，通常在由腔室包围处理器的状态下执行。在腔室中形成有用于将蚀刻处理前的玻璃基板向腔室内搬入的搬入口和用于将蚀刻处理后的玻璃基板向腔室外搬出的搬出口。

在先技术文献

专利文献1：日本特开2014-125414号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在采用了上述方法的情况下，产生了下述那样的应解决的问题。

即，在执行了蚀刻处理时，处理气体与玻璃基板发生反应而生成微小的生成物。该生成物顺着在腔室内产生的气流而漂浮等，有时作为异物会附着到玻璃基板的上表面。这里，对不为蚀刻处理的对象的上表面例如在下游工序中进行形成透明导电膜图案等的处理，但当在上表面附着有异物的状态下进行处理时，成为产生图案不良的原因。这样，在采用了上述方法的情况下，存在由于异物向上表面的附着而导致玻璃基板的品质下降这一问题。

鉴于上述情况而完成的本发明的技术课题在于，在将玻璃基板以平放姿势搬运的同时利用处理气体对玻璃基板的下表面实施蚀刻处理之际，防止玻璃基板的品质的下降。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题而完成的本发明是一种玻璃基板的制造方法，其在将从搬入口搬入到腔室内的玻璃基板以平放姿势沿着搬运路径搬运的同时，利用配置在搬运路径上的处理器所供给的处理气体对该玻璃基板的下表面实施蚀刻处理，之后将处理后的玻璃基板从搬出口向腔室外搬出，其特征在于，从配置在腔室内的比搬运路径靠上方侧的吸引口向腔室外进行排气。

在该方法中，从配置在腔室内的比搬运路径靠上方侧的吸引口向腔室外进行排气。因此，能够伴随着通过了吸引口的向腔室外的排气，将通过处理气体与玻璃基板的反应而生成的、可能作为异物附着于玻璃基板的上表面的生成物从腔室内排除。其结果是，能够避免玻璃基板的上表面上的异物的附着，能够防止玻璃基板的品质的下降。

在上述的方法中优选的是，在比处理器靠玻璃基板的搬运方向的下游侧，从吸引口向腔室外进行排气。