[发明专利]在其上形成有光屏蔽膜的波导及其制造方法

权利要求书

1.一种波导，包括形成在平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜：

其中，所述光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm，

基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.7至1.0。

2.根据权利要求1所述的波导，其中，所述光屏蔽膜包含选自炭黑、石墨、金属氧化物和有机黑色颜料中的至少一种黑色油墨颜料。

3.根据权利要求1所述的波导，其中，基于所述光屏蔽膜的总重量，黑色油墨颜料的含量为10重量％至25重量％。

4.根据权利要求1所述的波导，其中，所述光屏蔽膜的厚度为3μm至7μm。

5.根据权利要求1所述的波导，其中，基于厚度为1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度为2μm至5μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.80至1.0。

6.根据权利要求1所述的波导，其中，基于厚度为1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度为5μm至10μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.70至0.90。

7.根据权利要求1所述的波导，其中，所述波导的所述光屏蔽膜的粘合力为4B至5B。

8.根据权利要求1所述的波导，其中，上面形成有所述光屏蔽膜的所述波导的所述切割面是平坦表面、弯曲表面或倾斜表面。

9.根据权利要求1所述的波导，其中，所述光屏蔽膜在所述波导的所述切割面的侧面和侧棱上形成。

10.一种波导的制造方法，包括：

a)在所述平面波导的边缘侧的切割面上涂布可固化的油墨组合物至厚度为2μm至10μm来形成光屏蔽膜的涂层；以及

b)使所述涂层固化来形成基于厚度为1.0μm的所述光屏蔽膜，光密度(OD)为0.7至1.0的光屏蔽膜，其中，所述光屏蔽膜的厚度为2μm至10μm。

11.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，所述可固化的油墨组合物包含着色剂、环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、光聚合引发剂和沸点为190℃至280℃的溶剂。

12.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，步骤a)中的在所述平面波导的所述边缘侧的所述切割面上形成所述光屏蔽膜的所述涂层通过使用喷墨印刷或分配工艺进行。

13.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，步骤b)中的所述固化是UV固化。

14.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，所述光屏蔽膜的厚度为3μm至7μm。

15.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，基于厚度为1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度为2μm至5μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.8至1.0。

16.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，基于厚度为1.0μm的所述光屏蔽膜，厚度为5μm至10μm的所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.7至0.9。

17.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，所述波导的所述光屏蔽膜的粘合力为4B至5B。

18.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，上面形成有所述光屏蔽膜的所述波导的所述切割面被加工成平坦表面、弯曲表面或倾斜表面。

19.根据权利要求10所述的波导的制造方法，其中，所述光屏蔽膜在所述波导的所述切割面的侧面和侧棱上形成。

20.一种波导模块，该波导模块包括根据权利要求1所述的波导。