[发明专利]用于控制离子污染的方法及系统

权利要求书

1.一种质谱仪系统，包括：

离子源壳体，所述离子源壳体界定电离腔室，所述电离腔室包括界定帘幕板孔隙的帘幕板，在所述电离腔室中从样本产生的离子能够穿过所述帘幕板孔隙而被传输到一个或多个下游质量分析仪；

孔口板，所述孔口板界定取样孔口，所述孔口板与所述帘幕板分隔开以便在所述孔口板与所述帘幕板之间界定帘幕腔室，来自所述帘幕板孔隙的离子能够穿过所述帘幕腔室而被传输到所述取样孔口，其中传输的离子在所述取样孔口处经历真空膨胀；

电力供应器，所述电力供应器电耦合到所述帘幕板及所述孔口板，以向所述帘幕板及所述孔口板提供电信号；及

控制器，所述控制器以操作方式耦合到所述电力供应器，所述控制器经配置以控制施加到所述帘幕板及所述孔口板的所述电信号，以便在作为分析周期的第一周期期间依据第一配置且在作为非分析周期的第二周期期间依据第二配置来调制所述帘幕腔室内的电场，其中在所述第一配置中，所述帘幕腔室内的所述电场被调制为使得离子倾向于被传输穿过所述取样孔口，并且在所述第二配置中，所述帘幕腔室内的所述电场被调制为使得离子被阻止传输穿过所述帘幕腔室到所述取样孔口。

2.根据权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括用于使帘幕气体流动到所述帘幕腔室中的帘幕气体供应器，其中帘幕气体流动有效地阻止所述样本内的分子中的至少一部分分子传送到所述取样孔口。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述帘幕气体供应器以操作方式耦合到所述控制器，所述控制器经配置以在所述第二周期期间提高提供到所述帘幕腔室的帘幕气体的体积流率。

4.根据权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括离子源，所述离子源用于接收流体样本且用于将所述流体样本连续地排放到所述电离腔室中，所述电力供应器电耦合到所述离子源以便向所述离子源提供离子源电压，以在所述流体样本被排放到所述电离腔室中时产生离子，其中在所述第一周期及所述第二周期期间从所述离子源排放的所述流体样本的流率是相等的，且其中在所述第一周期及所述第二周期期间所述离子源电压是恒定的。

5.根据权利要求1所述的系统，其中在所述第一配置中，所述帘幕板被维持在大于+500V DC的电压处，且所述孔口板被维持在小于+300V的电压处。

6.根据权利要求1所述的系统，其中在所述第一配置中，所述帘幕腔室中的所述电场经配置以将第一极性的离子牵引穿过所述帘幕腔室并进入到所述取样孔口中。

7.根据权利要求6所述的系统，其中在所述第一配置中，针对所产生的离子，所述孔口板相对于所述帘幕板的电势而被维持在处于400V DC到900V DC的范围中的吸引势处。

8.根据权利要求6所述的系统，其中在所述第二配置中，所述孔口板被维持在与所述帘幕板相同的DC电势处。

9.根据权利要求6所述的系统，其中在所述第二配置中，针对所产生的离子，所述孔口板相对于所述帘幕板的电势而被维持在拒斥势处。

10.根据权利要求4所述的系统，其中流体样本包括来自液相色谱柱的流出物，且其中所述第一周期对应于洗脱梯度的其中可能存在所关注分析物的第一部分，且其中所述第二周期对应于所述洗脱梯度的第二部分，在所述第二部分中所关注分析物的相对丰度可能相对于所述洗脱梯度的所述第一部分中所关注分析物的相对丰度而减小。

11.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一周期包括其间存在第二周期的多个第一周期，其中所述多个第一周期中的每个第一周期对应于样本注入到液体载体流中的时间。

12.根据权利要求4所述的系统，所述系统进一步包括用于在样本检定期间从用户接受输入的用户界面，所述输入界定与所述流体样本中疑似存在所关注分析物的所述第一周期对应的数据收集窗。