[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物，其中，树脂包含由下述通式(I-1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含脂肪族单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)，相对于所述树脂中的所有重复单元，包含5摩尔％～60摩尔％的由通式(I-1)表示的重复单元(a)，所述重复单元(b)选自由下述通式(pA)表示的重复单元、下述通式(pB)表示的重复单元、下述化学式表示的重复单元，

通式(I-1)中，

R₁₁及R₁₂分别独立地表示氢原子或烷基；

R₁₃表示氢原子或烷基，或者是单键或亚烷基、且与式中的L或Ar键合形成环；

L表示单键或2价的连接基团；

Ar表示芳香环；

n表示2以上的整数，

通式(pA)中，

R₂₁、R₂₂及R₂₃分别独立地表示氢原子或烷基；

A表示单键或2价的连接基团；

Rp₁表示由通式(pI)表示的基团；

通式(pI)中，

R₂₄表示甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基；

Z表示与式中的碳原子一同形成单环的环烷基中需要的原子团；

*表示与由通式(pA)表示的重复单元的其余部分的连接部，

通式(pB)中，

R₃₁、R₃₂及R₃₃分别独立地表示氢原子或烷基，

A₂表示单键或2价的连接基团，

R₄₁、R₄₂及R₄₃分别独立地表示直链或分支烷基、或者单环或多环环烷基，其中，R₄₁、R₄₂及R₄₃中的至少1个表示单环的环烷基，

式中，R表示氢原子或甲基。

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

重复单元(b)中，所述保护基脱离产生的所述极性基为羧基。

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

重复单元(b)中，所述保护基包含的所述脂肪族单环为单环式烃基。

4.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

通式(I-1)中，Ar为苯环，n为2～5的整数。

5.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

通式(I-1)中，n＝2或3。

6.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

通式(I-1)中，L为单键或酯键。

7.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

通式(pA)中，A为单键。

8.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

通式(pA)中，Z与式中的碳原子一同形成的所述环烷基的碳原子数为5个～10个。

9.一种图案形成方法，其包含以下工序：

形成包含权利要求1至8中的任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的感光化射线性或感放射线性膜的工序；

对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的工序；及

对经曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜，通过显影液进行显影的工序。

10.根据权利要求9所述的图案形成方法，其中，

所述显影液含有有机溶剂。

11.一种电子器件的制造方法，其包含权利要求9或10所述的图案形成方法。