[发明专利]等离子体喷涂装置和方法

权利要求书

1.用于涂覆基板(S)的等离子体喷涂装置(1)，包括：

至少一个工作腔室(3)，所述工作腔室包括至少一个等离子体炬(21)和至少一个用于要涂覆的基板(S)的基板支承件(26)，惰性气体或惰性气体混合物在接近或高于正常压力的压力下容纳在所述工作腔室中；以及

至少一个气体回路(2)，所述气体回路与所述工作腔室(3)连通，并包括包含在所述工作腔室(3)中的惰性气体的再循环装置(R)，

所述再循环装置(R)包括闭合环路(L)，所述闭合环路包括：用于冷却气体的第一换热器(18)，所述第一换热器与所述工作腔室(3)连通；以及再循环鼓风机(17)，所述再循环鼓风机布置在所述第一换热器(18)的上游，适合从所述工作腔室(3)中抽出惰性气体，并将冷却的惰性气体的第一部分往回供给至所述工作腔室(3)的第一部分(3a)中，

其特征在于，所述再循环装置(R)包括至少一个通路(P)，所述通路与所述闭合环路(L)连通，并包括至少一个压缩机(19)和用于进一步冷却气体的第二换热器(20)，所述压缩机布置在所述第二换热器(20)的上游，适合将冷却的惰性气体的第二部分供给至所述工作腔室(3)的第二部分(3b)中，并通过适当布置的终端管道(31a、31b)而指向所述基板(S)。

2.根据权利要求1所述的装置，其中：所述气体回路(2)包括用于从工作腔室(3)抽出空气的至少一个真空泵(5)，所述真空泵沿第一分支(4)布置。

3.根据权利要求2所述的装置，其中：所述闭合环路(L)包括用于惰性气体的至少一个过滤器(13、14)，所述过滤器沿第二分支(6)布置。

4.根据前述任意一项权利要求所述的装置，还包括：至少一个穿透腔室(7)，所述穿透腔室通过至少一个闸门(9)而与所述工作腔室(3)连通，所述穿透腔室(7)包括至少一个门(8)，用于允许操作人员将基板(S)或物体装载至所述工作腔室(3)或者从所述工作腔室(3)卸载基板或物体。

5.根据权利要求4所述的装置，其中：所述穿透腔室(7)包括惰性气体进口(33)和惰性气体出口(34)，所述惰性气体进口和惰性气体出口由相应的阀(33a、34a)来操作。

6.根据权利要求1-3中任意一项所述的装置，其中：所述工作腔室(3)包括：惰性气体进口(28)和惰性气体出口(29)，所述惰性气体进口和惰性气体出口由相应的阀(28a、29a)来操作；以及第一冷却惰性气体进口(30)，用于供给冷却的惰性气体的所述第一部分。

7.根据权利要求1-3中任意一项所述的装置，其中：所述工作腔室(3)包括第二冷却惰性气体进口(31)，用于供给冷却的惰性气体的所述第二部分，所述第二冷却惰性气体进口(31)与指向所述基板(S)的至少一个终端管道(31a、31b)连通。

8.根据权利要求1-3中任意一项所述的装置，其中：所述工作腔室(3)包括温度测量装置(32)，用于在喷涂处理中监测基板(S)的温度。

9.根据权利要求1-3中任意一项所述的装置，其中：冷却的惰性气体是氩气。

10.根据权利要求1-3中任意一项所述的装置，其中：使用氩气和氦气的混合物来产生等离子体射流。