[发明专利]近红外线吸收玻璃的制造方法和制造装置

说明书

本发明提供能够容易制造分光特性优异的近红外线吸收玻璃的方法和装置。该近红外线吸收玻璃的制造方法为制造包含P和Cu的近红外线吸收玻璃的方法，该方法的特征在于，将原料以熔融温度T₁加热熔化制成熔融玻璃后，以比熔融温度T₁低的保持温度T₂保持熔融玻璃。

技术领域

本发明涉及能够选择性吸收近红外线的近红外线吸收玻璃的制造方法和制造装置。

背景技术

通常在数码相机或智能手机等的光学设备内的相机部分，以校正CCD(电荷耦合元件)、CMOS(互补性金属氧化膜半导体)等的固态摄象元件的能见度为目的，使用近红外线吸收玻璃。为了满足作为近红外线吸收玻璃所需要的分光特性，通常使用含Cu的磷酸玻璃。对于近红外线吸收玻璃，在实用上，也要求化学耐久性、耐候性，因此进行了组成和制造方法的各种改良。

为了提高磷酸玻璃的化学耐久性、耐候性，提出了含有增强玻璃骨架的SiO₂、Al₂O₃的方案(例如参照专利文献1)。然而，在该情况下，存在熔融性降低，熔融温度上升的倾向。如果熔融温度上升，则在近红外域显示吸收的Cu²⁺离子被还原，生成在紫外域显示吸收的Cu⁺离子，紫外～可见区域的光透射率容易降低，因此难以得到所希望的光学特性。

因此，为了维持铜的氧化状态，提出了在原料中添加氧化剂的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011－121792号

发明内容

发明要解决的技术问题

然而，添加氧化剂存在其自身对分光特性造成不良影响的可能性。

鉴于以上情况，本发明的目的在于提供能够容易地制造分光特性优异的近红外线吸收玻璃的方法和装置。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的近红外线吸收玻璃的制造方法是制造包含P和Cu的近红外线吸收玻璃的方法，其特征在于，将原料以熔融温度T₁加热熔化制成熔融玻璃后，以比熔融温度T₁低的保持温度T₂保持熔融玻璃。这样操作，即使在熔融玻璃中铜离子被还原成Cu⁺的情况下，通过以比熔融温度低的保持温度保持熔融玻璃，Cu⁺也容易被氧化成Cu²⁺。因此，能够提高所得到的近红外线吸收玻璃所含的铜离子中的Cu²⁺的比例，从而能够得到优异的分光特性。

在本发明的近红外线吸收玻璃的制造方法中，优选T₁－T₂为100～600℃。

在本发明的近红外线吸收玻璃的制造方法中，优选T₁为900～1400℃。

在本发明的近红外线吸收玻璃的制造方法中，优选T₂为800～1100℃。

在本发明的近红外线吸收玻璃的制造方法中，优选近红外线吸收玻璃以质量％计含有20～80％的P₂O₅、2～20％的Al₂O₃、0.1～20％的CuO、0～50％的R₂O(其中，R为选自Li、Na和K中的至少1种)、0～50％的R’O(其中，R’为选自Mg、Ca、Sr和Ba中的至少1种)。