[发明专利]法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780032566.4 申请日: 2017-05-01
公开(公告)号: CN109313334B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 笠原隆;柴山胜己;广瀬真树;川合敏光;大山泰生;藏本有未 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;B81B3/00;B81C1/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 法布里 干涉 滤光 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

包括:

形成工序,其在沿多条线的各个切断成多个基板的预定的晶圆的第1主面,将具有分别作为固定镜而发挥功能的预定的多个第1镜部的第1镜层、具有多个去除预定部的牺牲层、以及具有分别作为可动镜而发挥功能的预定的多个第2镜部的第2镜层,以1个所述第1镜部、1个所述去除预定部、及1个所述第2镜部自1个所述基板侧按1个所述第1镜部、1个所述去除预定部、及1个所述第2镜部的顺序配置的方式进行形成,且形成所述第1镜层、所述牺牲层、及所述第2镜层的至少一者沿多条所述线的各个部分地薄化而成的第1薄化区域;

切断工序,其在所述形成工序之后,利用激光的照射,沿多条所述线的各个在所述晶圆的内部形成改质区域,且自所述改质区域沿所述晶圆的厚度方向使龟裂伸展,由此沿多条所述线的各个将所述晶圆切断成多个所述基板;及

去除工序,其在所述形成工序与所述切断工序之间、或在所述切断工序之后,通过蚀刻而自所述牺牲层将所述去除预定部去除,

在所述形成工序中,在将形成于所述第1镜层上的所述牺牲层中的沿多条所述线的各个的部分薄化之后,在所述牺牲层上形成所述第2镜层,从而由所述第2镜层包覆沿多条所述线的各个相互相对的所述牺牲层的侧面。

2.如权利要求1所述的法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

在所述形成工序中,在所述晶圆的第2主面形成应力调整层,且形成所述应力调整层沿多条所述线的各个部分地薄化而成的第2薄化区域。

3.如权利要求2所述的法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

在所述切断工序中,通过使贴附于所述应力调整层侧的扩展胶带扩张,而自所述改质区域沿所述晶圆的厚度方向使所述龟裂伸展。

4.如权利要求3所述的法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

在所述切断工序中,在所述应力调整层侧贴附有所述扩展胶带的状态下,自与所述扩展胶带相反侧使所述激光入射至所述晶圆。

5.如权利要求3所述的法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

在所述切断工序中,在所述应力调整层侧贴附有所述扩展胶带的状态下,自所述扩展胶带侧经由所述扩展胶带而使所述激光入射至所述晶圆。

6.如权利要求1至5中任一项所述的法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

所述去除工序在所述形成工序与所述切断工序之间实施。

7.如权利要求1至5中任一项所述的法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

在所述形成工序中,以构成所述第1镜层或所述第2镜层的至少1个层的表面露出的方式,将所述第1镜层、所述牺牲层、及所述第2镜层的至少一者中的沿多条所述线的各个的部分薄化,

在所述切断工序中,经由所述表面而使所述激光入射至所述晶圆。

8.如权利要求6所述的法布里-帕罗干涉滤光器的制造方法,其特征在于,

在所述形成工序中,以构成所述第1镜层或所述第2镜层的至少1个层的表面露出的方式,将所述第1镜层、所述牺牲层、及所述第2镜层的至少一者中的沿多条所述线的各个的部分薄化,

在所述切断工序中,经由所述表面而使所述激光入射至所述晶圆。

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