[发明专利]处理镜像电荷/电流信号的方法有效
申请号: | 201780019544.4 | 申请日: | 2017-03-22 |
公开(公告)号: | CN109075011B9 | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | S·斯米尔诺夫;L·丁;A·鲁西诺夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | H01J49/00 | 分类号: | H01J49/00;H01J49/42 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 电荷 电流 信号 方法 | ||
1.一种用于对表示经历振荡运动的所俘获的离子的镜像电荷/电流信号进行处理的方法,所述方法包括:
基于频域中对与所述镜像电荷/电流信号相对应的频率谱中的峰的分析,来识别可能存在于所述镜像电荷/电流信号中的多个候选基频,其中,各个候选基频落在关注的频率范围内;
使用校准信号来导出针对各个候选基频的基础信号;以及
通过将所述基础信号映射到所述镜像电荷/电流信号来估计与所述候选基频相对应的离子的相对丰度,
其中,使用与如下的峰相关联的频率来计算至少一个候选基频,该峰落在所述关注的频率范围外并且已经被判断为表示该候选基频的二次或更高次谐波。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,针对各个候选基频仅导出一个基础信号。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,对所述频率谱中的峰的所述分析包括:向落在包括高于所述关注的频率范围的上界FMAX的频率的验证频率范围内的多个测试峰中的各个测试峰应用验证过程,其中应用于所述多个测试峰中的各个测试峰的所述验证过程包括:
(i)判断该测试峰是否可能表示落在所述关注的频率范围内的基频ft/N的N次谐波,其中,ft是与该测试峰相关联的频率并且N是大于1的整数,该判断是基于检查所述频率谱针对P从P=1至P=N-1的至少一个值是否包含与基频ft/N的P次谐波相对应的峰来进行的,其中P是整数;以及
(ii)如果判断为该测试峰可能表示落在所述关注的频率范围内的基频ft/N的N次谐波,则识别所述镜像电荷/电流信号中的候选基频ft/N。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,针对ft/N落在所述关注的频率范围内并且N小于或等于M的各个N的可能值进行步骤(i)和(ii),其中,M表示预定最大谐波数。
5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述验证频率范围包括FMAX和FMAX×M之间的频率,其中M表示预定最大谐波数。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,向落在所述验证频率范围内的所述多个测试峰应用所述验证过程,其中,所述验证过程从具有最接近并且小于或等于FMAX×M的相应频率的峰开始、并且按所述多个测试峰中的其它峰的关联频率的降序来针对这些其它峰而继续。
7.根据权利要求3所述的方法,其中,使用与所述验证频率范围中的已经被判断为表示所述候选基频的最高可能阶次谐波的峰相关联的频率,来计算所述候选基频。
8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述镜像电荷/电流信号具有在时域中至少为200ms的持续时间。
9.根据权利要求1所述的方法,其中,使用多个校准信号来导出所述基础信号,其中用于导出所述基础信号的所述多个校准信号是针对已知的离子质荷比所获得的镜像电荷/电流信号。
10.根据权利要求1所述的方法,其中,通过将所述基础信号映射到时域中所述镜像电荷/电流信号的一部分来估计与所述候选基频相对应的离子的相对丰度。
11.根据权利要求1所述的方法,其中,使用多项式校准函数来计算时域中所述基础信号的依赖质荷比的偏移。
12.根据权利要求1所述的方法,其中,将所述基础信号映射到所述镜像电荷/电流信号包括:使用所述基础信号的线性组合来近似所述镜像电荷/电流信号,以提供所述镜像电荷/电流信号的最佳拟合。
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