[发明专利]硬质涂膜、使用该硬质涂膜的偏光板、硬质涂膜加工品、显示部件在审

专利信息
申请号: 201780010617.3 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN108698388A 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 新纳干大;松井佑纪男 申请(专利权)人: 株式会社凸版巴川光学薄膜
主分类号: B32B27/20 分类号: B32B27/20;G02B1/14;G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 常海涛;孙微
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 硬质涂膜 硬质涂层 透明基材 显示部件 加工品 偏光板 低卷曲性 高硬度 弯曲性
【权利要求书】:

1.一种硬质涂膜,其为在透明基材的两面上设置有硬质涂层的硬质涂膜,其特征在于,

所述透明基材的厚度为5μm以上40μm以下,

所述硬质涂层各自的厚度均为5μm以上30μm以下,

所述硬质涂层的体积的合计为所述硬质涂膜的总体积的40%以上,并且,

所述硬质涂膜的总厚度为80μm以下。

2.根据权利要求1所述的硬质涂膜,其中,

所述透明基材的一个面上的硬质涂层含有胶体二氧化硅及紫外线固化树脂,

所述透明基材的另一个面上的硬质涂层含有紫外线固化树脂。

3.根据权利要求1所述的硬质涂膜,其特征在于,

铅笔硬度为7H以上,

距离表面的深度为50nm的位置处的超微小压痕硬度为450N/mm2

将所述硬质涂膜切成100mm见方而得到的样品的4角的膜立起来的高度为20mm以下,

当以10mm以上的弯曲直径弯折时,不产生裂纹。

4.根据权利要求2所述的硬质涂膜,其特征在于,

所述胶体二氧化硅的平均粒径为80nm以下,

所述透明基材的所述一个面上的硬质涂层含有20质量%以上70质量%以下的所述胶体二氧化硅,

所述胶体二氧化硅为在表面上具有紫外线反应基团的表面处理胶体二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的硬质涂膜,其特征在于,

所述透明基材为三乙酸纤维素、环烯烃聚合物、环烯烃共聚物、丙烯酸类、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯中的任一者的膜。

6.一种偏光板,其具有权利要求1所述的硬质涂膜。

7.根据权利要求6所述的偏光板,其特征在于,

铅笔硬度为7H以上,

距离表面的深度为50nm的位置处的超微小压痕硬度为450N/mm2

将所述偏光板切成100mm见方而得到的样品的4角的膜立起来的高度为20mm以下,

当以10mm以上的弯曲直径弯折时,不产生裂纹。

8.一种显示部件,其具有权利要求6所述的偏光板。

9.一种硬质涂膜加工品,其是通过在权利要求1所述的硬质涂膜的一个面上赋予粘合层而得到的。

10.一种硬质涂膜加工品,其是通过在权利要求1所述的硬质涂膜的一个面上赋予印刷层及粘合层而得到的。

11.根据权利要求9或10所述的硬质涂膜加工品,其特征在于,

铅笔硬度为7H以上,

距离表面的深度为50nm的位置处的超微小压痕硬度为450N/mm2

将所述硬质涂膜加工品切成100mm见方而得到的样品的4角的膜立起来的高度为20mm以下,

当以10mm以上的弯曲直径弯折时,不产生裂纹。

12.一种显示部件,其具有权利要求9或10所述的硬质涂膜加工品。

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