[发明专利]硫化物类聚合物、包含该聚合物的薄膜以及该薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种聚合物，包含：

由下面的化学式1表示的第一单元；以及

由下面的化学式2表示的第二单元：

[化学式1]

[化学式2]

其中，在化学式1和化学式2中，

R1至R9彼此相同或不同，并且各自独立地是氢、氘、卤素基团、被取代的或未被取代的烷基、被取代的或未被取代的环烷基、被取代的或未被取代的芳基、或者被取代的或未被取代的杂环基，或者相邻的取代基彼此键合以形成被取代的或未被取代的芳香族环状基团；

a至h各自是0至4的整数，i是0至8的整数；

当a至i为2以上时，括号中的取代基彼此相同或不同；

m和n各自是1至1000的整数，

其中，在所述聚合物中，所述第一单元的含量大于或等于1重量％且小于或等于99重量％，所述第二单元的含量大于或等于1重量％且小于或等于99重量％。

2.根据权利要求1所述的聚合物，该聚合物的重均分子量为10,000至200,000。

3.一种薄膜，该薄膜包含权利要求1或2所述的聚合物。

4.根据权利要求3所述的薄膜，该薄膜通过将所述聚合物溶解在有机溶剂中并浇铸所得物来制备。

5.根据权利要求4所述的薄膜，其中，所述有机溶剂包括二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亚砜(DMSO)、四氢呋喃(THF)和丙酮中的一种或多种类型。

6.根据权利要求3所述的薄膜，该薄膜的厚度为5μm至100μm。

7.根据权利要求3所述的薄膜，该薄膜的折射率大于或等于1.7且小于或等于5。

8.一种薄膜的制备方法，包括：

通过将权利要求1或2所述的聚合物溶解在有机溶剂中来制备聚合物溶液；以及

通过浇铸所述聚合物溶液来制备薄膜。

9.根据权利要求8所述的薄膜的制备方法，其中，所述有机溶剂包括二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亚砜(DMSO)、四氢呋喃(THF)和丙酮中的一种或多种类型。

10.根据权利要求8所述的薄膜的制备方法，其中，所述薄膜的厚度为5μm至100μm。