[发明专利]微波处理装置及程序在审
| 申请号: | 201780001854.3 | 申请日: | 2017-05-10 |
| 公开(公告)号: | CN107637166A | 公开(公告)日: | 2018-01-26 |
| 发明(设计)人: | 塚原保徳;田中雄也;栗原英资;金城隆平;渡边久夫 | 申请(专利权)人: | 微波化学有限公司 |
| 主分类号: | H05B6/80 | 分类号: | H05B6/80;B01J19/12;H05B6/68;H05B6/72 |
| 代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人: | 温剑,陈英俊 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 微波 处理 装置 程序 | ||
技术领域
本发明涉及照射微波的装置等。
背景技术
以往,已知一种通过相对于反应物质照射微波(电磁波)来进行热处理等的加热装置或者化学反应方法(例如,参照专利文献1)。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本特表2006-516008号公报(第一页、第一图等)
发明内容
发明所要解决的技术问题
但是,在现有的微波处理装置中,存在难以恰当地控制微波的照射这一技术问题。
例如,在现有的微波处理装置中,难以通过照射微波来局部加热期望的部分。另外,例如,在现有的微波处理装置中,难以通过照射微波来均等地加热期望的空间。
本发明是为了解决如上所述的技术问题而作出的,其目的在于提供一种能够恰当地控制微波的照射的微波处理装置等。
用于解决技术问题的方案
本发明的微波处理装置具备:照射部,从多个射出部照射微波;移动部,使多个射出部单独地移动;以及控制部,控制由移动部进行的射出部的移动。
根据该结构,单独地移动多个射出部的位置,能够恰当地控制微波的照射。例如,通过单独地变更多个射出部的位置,能够通过微波使电场集中到期望的部分,或者使期望的区域的电场分布变得均等。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,控制部控制移动部,使各个射出部移动,从而使从多个射出部射出的微波至少在期望的部分重叠。
根据该结构,能够局部加热期望的部分。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,控制部控制移动部,使一个以上的射出部移动,从而使从多个射出部射出的微波在期望的部分通过干涉彼此增强。
根据该结构,能够局部加热期望的部分。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,控制部控制移动部,使一个以上的射出部移动,从而使从多个射出部射出的微波产生的电场在期望的部分集中。
根据该结构,能够局部加热期望的部分。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,控制部控制移动部,使一个以上的射出部移动,从而使入射到期望的部分的微波的相位变为相同的相位。
根据该结构,能够局部加热期望的部分。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,照射部进一步能够变更从多个射出部射出的微波的相位,控制部进一步对照射部从多个射出部射出的微波的相位进行控制。
根据该结构,能够恰当地控制微波的照射。例如,通过组合多个射出部的位置与由多个射出部射出的微波的相位,能够通过微波使电场集中到期望的部分,或者使期望的区域的电场分布变得均等。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,控制部控制照射部,从而使照射部从多个射出部射出的微波的至少一部分变为不同相位的微波。
根据该结构,能够恰当地控制微波的照射。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,照射部进一步可照射两个以上的不同频率的微波,控制部控制向期望的部分照射的微波的频率。
根据该结构,能够控制向期望的部分照射的微波的频率,能够提高由微波进行的加热效率。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,照射部具备一个以上的微波振荡器和多个传输单元,所述多个传输单元具有射出部,传输由该微波振荡器振荡出的微波,并从射出部射出传输的微波,移动部使多个射出部单独地移动。
根据该结构,单独地移动多个射出部的位置,能够恰当地控制微波的照射。
另外,本发明的微波处理装置为如下的微波处理装置:即,在所述微波处理装置中,移动部具有多个机器人手臂,多个射出部分别设置于多个机器人手臂,并与各机器人手臂的动作相应地单独移动。
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