[实用新型]基于OVD的控制给气量玻璃微粒沉积均匀化装置

说明书

本实用新型公开了一种基于OVD的控制给气量玻璃微粒沉积均匀化装置，涉及光纤预制棒制造技术领域，该装置包括反应容器、喷灯、给气设备、外径测量仪、移动部件、给气调整器和给气控制器。反应容器用于收容玻璃微粒沉积体。喷灯位于反应容器内部，用于向玻璃微粒沉积体的侧面喷射玻璃颗粒。给气设备包括给气口以及与给气口连通的给气管道，给气口位于反应容器内部，用于向喷灯提供气流。外径测量仪位于反应容器内部，用于测量玻璃微粒沉积体的外径。移动部件用于同时驱动喷灯、给气口和外径测量仪沿着玻璃微粒沉积体的轴向移动。给气调整器用于控制给气口的气体流量。给气控制器分别与外径测量仪以及给气调整器信号连接。

技术领域

本实用新型涉及光纤预制棒制造技术领域，具体涉及一种基于 OVD的控制给气量玻璃微粒沉积均匀化装置。

背景技术

OVD工艺又称外部气相化学沉积工艺(Outside Vapour Deposition)其对光纤预制棒的外径没有限制，能够较好的制备生产直径较大的预制棒，同时制造成本低，使得OVD工艺成为目前沉积法制造光纤预制棒的主要工艺之一。

该工艺使用含有四氯化硅(SiCl4)，四氯化硅的原料在氧气环境中通过喷灯与氢气(或甲烷)/氧气火焰一起喷向转动的靶棒，上述物质水解反应生成的二氧化硅颗粒并随着热涌效应吸附沉积到靶棒。在沉积过程中，喷灯与靶棒之间进行相对运动，使得二氧化硅细微颗粒逐层沉积在靶棒上直至达到设计重量和直径，最终得到光纤预制棒的中间产品。

目前，设置有靶棒和喷灯的反应容器内是固定设置给气口的。该给气口向反映容器内喷出气体能够均衡反应容器内部压力和物质。但是，反应容器内部设有给气口的一端和未设一端常常温度不均匀，且气体流动偏差较大。而在反应过程中，二氧化硅颗粒的沉积量十分依赖其周围的气体流动速度，气体流动越快，玻璃微粒流动越快，则不容易吸附在靶棒上，反之二氧化硅颗粒则能够较快的吸附沉积。因此，反应容器内温度和气流的不均匀会导致喷灯靶棒上，同样的沉积时间下不同位置的二氧化硅颗粒沉积量不同，最终造成光纤制备失败。

实用新型内容

针对现有技术中存在的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种基于OVD的控制给气量玻璃微粒沉积均匀化装置，其能够根据玻璃微粒沉积体外径变化调整给气口给气量，使得制备的玻璃微粒沉积体外径均匀。

为达到以上目的，本实用新型采取的技术方案是：

一种基于OVD的控制给气量玻璃微粒沉积均匀化装置，其特征在于，其包括：

反应容器，用于收容玻璃微粒沉积体；

喷灯，其位于所述反应容器内部，用于向所述玻璃微粒沉积体的侧面喷射玻璃颗粒；

给气设备，其包括给气口以及与给气口连通的给气管道，所述给气口位于所述反应容器内部，用于向所述喷灯提供气流；

外径测量仪，其位于所述反应容器内部，用于测量所述玻璃微粒沉积体的外径；

移动部件，用于同时驱动所述喷灯、所述给气口和所述外径测量仪沿着所述玻璃微粒沉积体的轴向移动；

给气调整器，用于控制所述给气口的气体流量；

给气控制器，所述给气控制器分别与所述外径测量仪以及所述给气调整器信号连接。

在上述技术方案的基础上，所述给气调整器包括挡板和驱动装置，所述挡板被配置为可伸入所述给气管道，所述驱动装置用于驱动所述挡板移动。

在上述技术方案的基础上，所述给气调整器包括电动风阀和调节装置，所述电动风阀固设于所述给气管道内，所述调节装置用于调节电动风阀叶片的偏转。

在上述技术方案的基础上，所述外径测量仪为激光测量仪。

在上述技术方案的基础上，所述给气控制器为PLC设备或专用 PC。