[实用新型]基于OVD的控制排气量玻璃微粒沉积效率化装置

说明书

本实用新型公开了基于OVD的控制排气量玻璃微粒沉积效率化装置，涉及光纤预制棒制造技术领域，该装置包括反应容器、排气管道、流量计、排气调整器和排气控制器；反应容器用于收容玻璃微粒沉积体；排气管道所述排气管道和反应容器连通；流量计所述流量计设于所述排气管道内；排气调整器用于调节所述排气管道内的气体流量；排气控制器所述排气控制器分别与所述流量计和排气调整器信号连接。本实用新型基于OVD的控制排气量玻璃微粒沉积效率化装置能够实时调节反应容器的排气量保证沉积的效率。

技术领域

本实用新型涉及光纤预制棒制造技术领域，具体涉及基于OVD的控制排气量玻璃微粒沉积效率化装置。

背景技术

OVD工艺又称外部气相化学沉积工艺(Outside Vapour Deposition)其对光纤预制棒的外径没有限制，能够较好的制备生产直径较大的预制棒，同时制造成本低等等诸多优点，使得OVD工艺成为目前沉积法制造光纤预制棒的主要工艺之一。

该工艺使用含有四氯化硅(SiCl4)，四氯化硅的原料在氧气环境中通过喷灯与氢气(或甲烷)/氧气火焰一起喷向转动的靶棒，上述物质水解反应生成的二氧化硅颗粒并随着热涌效应吸附沉积到靶棒。在沉积过程中，喷灯与靶棒之间进行相对运动，使得二氧化硅细微颗粒逐层沉积在靶棒上直至达到设计重量和直径，最终得到光纤预制棒的中间产品。其中反应发生的反应容器一般设有排气管道，用于排出反应容器中的气体从而保持反应容器内的物质、气压均衡。

排气管道排气量对反应容器内玻璃微粒的沉积有着较大的影响，排气量过少时，反应容器内的腐蚀气体堆积过多容易发生泄露，而泄露的腐蚀气体对设备以及操作人员均有害；排气量过多时，玻璃微粒的流动过快，沉积效率低。然而，目前排气装置的排气量是由人工手动进行调节的，这种调节方式只能粗调排气量，无法细致的调节反应容器内的气体。此外，实时调节排气量也要求较准确的调节方式，现有的人工调节无法满足。

实用新型内容

针对现有技术中存在的缺陷，本实用新型的目的在于提供基于 OVD的控制排气量玻璃微粒沉积效率化装置，能够实时调节反应容器的排气量保证沉积的效率。

为达到以上目的，本实用新型采取的技术方案是：

基于OVD的控制排气量玻璃微粒沉积效率化装置，其特征在于，其包括：

反应容器，用于收容玻璃微粒沉积体；

排气管道，所述排气管道和反应容器连通；

流量计，所述流量计设于所述排气管道内；

排气调整器，用于调节所述排气管道内的气体流量；

排气控制器，所述排气控制器分别与所述流量计和排气调整器信号连接。

在上述技术方案的基础上，所述排气调整器包括挡板和驱动装置，所述挡板被配置为可伸入所述排气管道，所述驱动装置用于驱动所述挡板移动。

在上述技术方案的基础上，所述排气调整器包括电动风阀和调节装置，所述电动风阀固设于所述排气管道内，所述调节装置用于调节电动风阀叶片的偏转。

在上述技术方案的基础上，所述流量计包括扇轮和转速计，所述扇轮被转动地设于排气管道内，所述转速计，用于测量所述扇轮的转速。

在上述技术方案的基础上，所述流量计为气体流量计

在上述技术方案的基础上，所述扇轮扇叶的材料为耐腐蚀材料。

在上述技术方案的基础上，所述扇轮扇叶的材料为塑料。

在上述技术方案的基础上，所述排气控制器为PLC设备或者专用 PC。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：