[实用新型]降噪装置及磁共振系统有效

专利信息
申请号: 201721366802.X 申请日: 2017-10-23
公开(公告)号: CN207263911U 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 毛苏杭 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技有限公司
主分类号: G01R33/421 分类号: G01R33/421
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 孟金喆
地址: 201807 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 装置 磁共振 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型实施例涉及医疗设备技术领域,尤其涉及一种降噪装置及磁共振系统。

背景技术

磁共振在医疗领域的应用日益广泛,其对软组织有极佳的成像效果,可以比其他成像系统提供更丰富的诊断信息,并且不会对人产生电离辐射损伤。但在扫描过程中,梯度线圈在主磁场作用下振动,且振动过程中产生大量噪声,而且噪声会通过射频线圈传递至圆筒形的检测空间,使病人承受较大的噪声和由噪声带来的恐惧感。

现有技术通过吸音棉或者隔音棉实现降噪,效果较差,病人需要承受较大的噪声困扰。

实用新型内容

本实用新型提供一种降噪装置及磁共振系统,以解决现有技术通过吸音棉或者隔音棉来吸收梯度线圈所产生的噪声的效果较差的问题,通过降噪装置提高了吸收梯度线圈产生的噪声的效果。

第一方面,本实用新型实施例提供了一种降噪装置,设置在磁共振系统的梯度线圈与射频线圈之间,包括:外侧消声层、中间层及内侧消声层;

所述外侧消声层上开设有若干穿孔;

所述中间层包括多个声波通道和相对设置的端环,且所述声波通道连接两相对设置的端环;

所述内侧消声层与所述声波通道形成多个腔体,所述腔体通过所述穿孔与外部连通。

进一步地,所述降噪装置设置成筒形,所述端环沿降噪装置的周向分布,所述声波通道沿降噪装置的轴线相平行的方向延伸。

进一步地,多个所述声波通道沿周向间隔设置,并包括若干相互连通的声波通道单元,所述声波通道单元包括串联连通的第一声波通道和第二声波通道,所述第一声波通道沿周向的宽度大于所述第二声波通道沿周向的宽度。

进一步地,所述端环设置成空心结构,多个所述声波通道通过所述端环相连通。

进一步地,所述声波通道沿所述中间层的圆周方向等间隔阵列分布。

进一步地,所述中间层由多孔性吸声材料或吸声结构构成。

第二方面,本实用新型实施例提供了一种磁共振系统,包括:

超导磁体,所述超导磁体环绕形成检测空间;

降噪装置,设置于所述检测空间中;

梯度线圈,设置于所述检测空间中,且位于所述降噪装置的外侧;

射频线圈,设置于所述检测空间中,且位于所述降噪装置的内测;

所述降噪装置内部设置有多个谐振腔,所述降噪装置的外侧壁设置有多个穿孔,所述谐振腔通过所述穿孔与外部连通。

进一步地,所述降噪装置包括外侧消声层、中间层和内侧消声层,所述穿孔设置在所述外侧消声层,所述外侧消声层和所述内侧消声层形成闭合空间,所述中间层通过所述声波通道将所述闭合空间间隔成多个谐振腔组。

进一步地,所述多个谐振腔组沿所述射频线圈的周向方向设置,所述谐振腔组包括多个相互连通的谐振腔,所述谐振腔与声波通道单元相对应。

进一步地,所述中间层包括多个声波通道和相对设置的端环,所述端环沿所述射频线圈的周向方向设置,所述声波通道沿所述射频线圈的轴向方向相平行的方向延伸,且所述声波通道连接两相对设置的端环。

本实用新型提供的降噪装置外侧消声层开设有若干穿孔,中间层包括由声波通道和端环组成的抗性消声结构或阻性消声结构,可以吸收梯度线圈工作时产生的噪声频率阈值范围内的噪声,外侧消声层的穿孔可对特定波长的进行第一级降噪,内侧消声层和中间层的声波通道形成若干谐振腔,这些腔体形成的消声器可以对特定波长的噪声进行二次消除,从而降低磁共振设备的扫描孔径的检测空间内的噪声;进一步地,中间层的声波通道可设置成多种类型,对不同频率的噪声进行滤除,减少病人由噪声带来的恐惧感,有利于病人放松,以及始终保持正确的扫描体位,进而有利于提高磁共振扫描数据的准确性以及病人、医生的使用体验。

附图说明

图1是本实用新型实施例一提供的降噪装置的结构示意图;

图2是本实用新型实施例一提供的降噪装置的内侧消声层的结构示意图;

图3是本实用新型实施例一提供的降噪装置的中间层的结构示意图;

图4是本实用新型实施例一提供的降噪装置的中间层的声波通道;

图5是本实用新型实施例一提供的降噪装置的外侧消声层的结构示意图;

图6是本实用新型实施例二提供的磁共振设备的结构示意图;

图7是本实用新型实施例三提供的磁共振系统的结构示意图。

图标:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海联影医疗科技有限公司,未经上海联影医疗科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721366802.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top