[实用新型]一种掩模板边角残留铬的清除装置

说明书

技术领域

本实用新型涉掩模板的制作辅助设备领域，尤其涉及的是一种掩模板边角残留铬的清除装置。

背景技术

在光学掩模板制版行业，通常都需要对掩模板周边残留的多余的金属铬层进行清除，以免影响到掩模板的实际应用。所谓的掩模板指的是一种由表面金属薄膜记载图形、文字等信息的介质载板(例如玻璃载板)。而本文中的残留的多余的金属铬层指的是掩模板在生产制造过程中受材料、环境、工艺等诸多因素的影响，在其四边角所形成无意义但会影响到掩模板实际应用的多余金属铬层残留。

传统的清除方法或者采用棉签沾溶剂和药水手工逐边去除，或者采用无尘布沾溶剂和药水手工逐边去除。但是，这些传统的清除方法不仅处理速度慢，而且当光刻胶上的有效(或有用)图形与无效边沿距离过近时，手工去除都会影响到有效图形区域；同时，在手工清除的过程中，因部分溶剂和药水的挥发或不小心溅射到光刻胶上，还会造成产品的报废。

因此，现有技术尚有待改进和发展。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩模板边角残留铬的清除装置，可快速精确地清除掩模板边角残留铬层，提升工作时效。

本实用新型的技术方案如下：一种掩模板边角残留铬的清除装置，包括：支架、宽度调整组件、密封活塞和渗透棉；其中，所述支架设置有侧定位面，用于与掩模板的侧面相接触，所述支架中设置有用于盛装药液的容腔，所述渗透棉设置在容腔的底部，用于被盛装在该容腔中的药液浸泡，所述宽度调整组件设置在支架上，所述密封活塞连接在该宽度调整组件上，用于调整所述渗透棉的宽度。

所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其中：所述支架的顶部设置有一连通至所述容腔的药液添加口，该药液添加口上设置有一可拆装的盖子。

所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其中：所述支架的纵向断面呈L形，其容腔的部分底面低于掩模板的上表面。

所述的掩模板边角残留铬的清除装置，其中：所述支架上设置有观察窗，用于观察容腔内药液的容积。

本实用新型所提供的一种掩模板边角残留铬的清除装置，由于在支架上采用了与掩模板侧面相接触的侧定位面，结合浸泡有药液的渗透棉以及可调整其宽度的密封活塞，不仅实现了对待清除的残留铬层宽度的精确调整，而且只需将该清除装置沿掩模板侧面进行前后匀速移动，即可快速精确地清除掩模板边角残留铬层，大大提升了工作时效；同时，即使光刻胶上的有效图形与无效边沿距离过近，也不会对有效图形造成任何影响，也避免了因部分药液的挥发或溅射而导致产品的报废。

附图说明

图1是本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置实施例的结构示意图。

具体实施方式

以下将结合附图，对本实用新型的具体实施方式和实施例加以详细说明，所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的具体实施方式。

如图1所示，图1是本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置实施例的结构示意图，该清除装置包括支架210、宽度调整组件230(图中标号所指为该调整组件的旋钮位置)、密封活塞250和渗透棉260；其中，所述支架210设置有侧定位面211，用于与掩模板100的侧面120相接触，所述支架210中设置有用于盛装药液的容腔220，所述渗透棉260设置在容腔220的底部，用于被盛装在该容腔200中的药液浸泡，所述宽度调整组件230设置在支架210上，所述密封活塞250连接在该宽度调整组件230上，用于调整所述渗透棉260的宽度。

本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置由于在支架210上采用了与掩模板100侧面120相接触的侧定位面211，结合浸泡有药液的渗透棉260以及可调整渗透棉260宽度的密封活塞250，不仅实现了对待清除的残留铬层130宽度的精确调整，而且只需将该清除装置沿掩模板100侧面120进行前后匀速移动，即可快速精确地清除掩模板边角残留铬层130，大大提升了工作时效；同时，即使光刻胶上的有效图形与无效边沿距离过近，也不会对有效图形造成任何影响，也避免了因部分药液的挥发或溅射而导致产品的报废。

在本实用新型掩模板边角残留铬的清除装置的具体实施方式中，所述支架210的顶部设置有一连通至所述容腔220的药液添加口240，该药液添加口240上设置有一可拆装的盖子241，以进一步避免容腔220中的药液挥发或在支架210移动的过程中产生溅射。