[实用新型]一种应用于智能等离子抛光设备的抛光液自动循环机构有效
申请号: | 201721254819.6 | 申请日: | 2017-09-27 |
公开(公告)号: | CN207206197U | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 夏科睿;王飞;岳国龙;程栋梁;赵福臣;夏沁园;孙强;于振中;刘振 | 申请(专利权)人: | 哈工大机器人(合肥)国际创新研究院 |
主分类号: | B24B57/00 | 分类号: | B24B57/00;B24B57/02 |
代理公司: | 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙)34124 | 代理人: | 王志兴 |
地址: | 236000 安徽省合肥市经*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 智能 等离子 抛光 设备 自动 循环 机构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种等离子体应用领域,尤其涉及的是一种应用于智能等离子抛光设备的抛光液自动循环机构。
背景技术
等离子抛光是一项利用正离子与金属表面进行离子置换,达到抛光效果的新技术。具有无污染、抛光效率高、应用范围广等优点。不仅可以解决航天国防领域一些电液伺服阀和集成油路系统关键件的内腔壁难以抛光的问题,而且适用于民用领域,如机器制造、医疗仪器、模具制造等领域。使用等离子抛光技术代替传统抛光方法,能够减少劳动力成本、降低工作量、节约抛光时间,真正做到高效率、低成本、无污染,对我国环境友好型工业的发展具有重大意义。
目前,民用领域抛光主要通过人工、机械半自动化、电化学(电解、电镀)等方式。人工抛光可以实现对某些异型构件的抛光,但无法满足企业产能的需求。机械半自动化抛光虽然可以满足企业产能的需求,但存在抛光精度不高、现场粉尘大的问题。电化学抛光能够满足企业产能与抛光精度需求,但存在耗电量大、污染比较严重的问题。随着我国对工业环保问题的不断重视,传统的抛光方式比较得到升级与改造,等离子抛光技术的出现满足了这一需求。
基于无污染、抛光效率高等固有优点,等离子抛光技术得以广泛应用。现有等离子抛光设备基本能够满足民用领域的抛光需求,但也存在操作复杂、智能程度低、整机设备抛光效率低等问题。主要体现为人工配制抛光液以及抛光液加热人工搅拌两个方面。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供了一种降低人工成本,效率高的应用于智能等离子抛光设备的抛光液自动循环机构。
本实用新型是通过以下技术方案解决上述技术问题的:本实用新型包括抛光液配制循环系统、抛光液均匀加温搅拌系统、控制装置;所述抛光液配制循环系统包括由管道连接的第一泵体、配液箱、抛光箱;所述第一泵体与配液箱循环连接,所述第一泵体同时连接抛光箱;所述抛光液均匀加温搅拌系统包括第二泵体;所述第二泵体与抛光箱循环管道连接;所述控制装置连接第一泵体、配液箱、抛光箱、第二泵体。
优选的,所述抛光液配制循环系统还包括单向阀,设置在第一泵体与配液箱之间。
优选的,所述抛光液配制循环系统还包括第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀;所述第一电磁阀安装在第一泵体前,第二电磁阀安装在单向阀后配液箱前的管道上,第三电磁阀安装在单向阀后抛光箱前的管道上,且所述控制装置均线路控制第一电磁阀、第二电磁阀、控制第三电磁阀。
优选的,所述抛光液均匀加温搅拌系统还包括废液箱,所述废液箱连接在第二泵体后。
优选的,所述抛光液均匀加温搅拌系统还包括第四电磁阀、第五电磁阀、第六电磁阀;所述第四电磁阀安装在第二泵体连接抛光箱的管道上,第五电磁阀安装在抛光箱连接第二泵体的管道上,第六电磁阀安装在废液箱前管道上,且控制装置线路连接第四电磁阀、第五电磁阀、第六电磁阀。
优选的,所述第一泵体和第二泵体均为耐腐蚀泵。
优选的,所述抛光箱内设有均与控制装置连接的加热装置、温度感应装置、液位感应装置。
优选的,所述配液箱内设置与控制装置连接的液位感应装置。
优选的,所述控制装置设置用于控制搅拌时间的时间控制装置。
本实用新型相比现有技术具有以下优点:
1.简化操作流程,人工操作易于上手。2.增加设备整体的智能程度3.提高等离子抛光设备整机效率。
附图说明
图1是本实用新型一种应用于智能等离子抛光设备的抛光液自动循环机构的结构示意图;
图2是本实用新型抛光液配制循环系统的结构示意图;
图3是本实用新型抛光液均匀加温搅拌系统的结构示意图。
抛光液配制循环系统1第一泵体11配液箱12抛光箱13单向阀14第一电磁阀15第二电磁阀16第三电磁阀17抛光液均匀加温搅拌系统2第二泵体21废液箱22第四电磁阀23第五电磁阀24第六电磁阀25
具体实施方式
下面对本实用新型的实施例作详细说明,本实施例在以本实用新型技术方案为前提下进行实施,给出了详细的实施方式和具体的操作过程,但本实用新型的保护范围不限于下述的实施例。
如图1所示,本实施例包括抛光液配制循环系统1、抛光液均匀加温搅拌系统2、控制装置(图中未示出);所述控制装置连接抛光液配制循环系统1和抛光液均匀加温搅拌系统2,所述抛光液配制循环系统1连接抛光液均匀加温搅拌系统2。
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