[实用新型]10G兼容100G的滤光片组合件

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种滤光片，特别是一种滤光片组合件。

背景技术

现在，为数据中心和企业网络提供更具成本效益的40G/100G光模块厂商越来越多。目前，光模块厂商都推出了第一款CFP2模块，许多网络设备制造商都采用了这种封装模式，还有一部分厂商在等待CFP4模块的出现。对于100G，设备提供商、芯片开发商和光器件供应商面临100G接口需求的显著挑战。在国内外先进设备制造商的竞争中，不仅仅是对光模块速率的要求越来越高，通信设备要求的体积也越来越小，甚至还要求接口板包含的接口密度也越来越高。传统的光模块已经无法适应这些要求，而40G/100G光模块的出现正好解决这一问题。

目前，还没有10G兼容100G的滤光片组合件。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术中的不足，提供一种能缩短研发和生产周期，还减少元器件采购种类的10G兼容100G的滤光片组合件。

为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：

10G兼容100G的滤光片组合件，包括水平滤光片和倾斜滤光片，水平滤光片一侧面粘贴固定在倾斜滤光片的表面，光线由倾斜滤光片反射后射向水平滤光片，水平滤光片和倾斜滤光片的夹角为8°～45°，水平滤光片和倾斜滤光片都是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成，高反膜设在玻璃基板的一侧表面，增透膜设在玻璃基板的另一侧表面。

进一步地，所述高反膜是由28个五氧化二钽反射介质层和27个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的55层结构。

进一步地，所述增透膜是由2个五氧化二钽反射介质层和2个二氧化硅反射介质层构成，第1层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第1层的表面，第3层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在第2层的表面，第4层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第3层的表面；所述增透膜中，第1层的厚度为57.47nm，第2层的厚度为84.10nm、第3层的厚度为206.21nm、第4层的厚度为256.04nm。

本实用新型的有益效果：由于采用上述的结构形式，高度集成的10G兼容100G的滤光片组合件不但使用户无须处理高速模拟光电信号，而且缩短研发和生产周期，还减少元器件采购种类，生产成本大大减少，因此获得了设备制造商的高度关注。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为倾斜滤光片的结构示意图。

图中：1、水平滤光片； 2、倾斜滤光片； 3、夹角；4、玻璃基板； 5、高反膜； 6、增透膜。

具体实施方式

如图1、2所示，10G兼容100G的滤光片组合件，包括水平滤光片1和倾斜滤光片2，水平滤光片1一侧面粘贴固定在倾斜滤光片2的表面，光线由倾斜滤光片2反射后射向水平滤光片1，水平滤光片1和倾斜滤光片2的夹角3为8°～45°，水平滤光片1和倾斜滤光片2都是由玻璃基板4、高反膜5和增透膜6构成，高反膜5设在玻璃基板4的一侧表面，增透膜6设在玻璃基板4的另一侧表面。所述高反膜5是由28个五氧化二钽反射介质层和27个二氧化硅反射介质层交替叠加而成的55层结构。

进一步地，所述增透膜6是由2个五氧化二钽反射介质层和2个二氧化硅反射介质层构成，第1层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第1层的表面，第3层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在第2层的表面，第4层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第3层的表面；所述增透膜中，第1层的厚度为57.47nm，第2层的厚度为84.10nm、第3层的厚度为206.21nm、第4层的厚度为256.04nm。

工作原理：所述的滤光片通过膜层的材料、厚度和串联方式的选择， 通过对非规整膜系的优化实现光路折射跟滤光片的性能，同时通过冷加工技术把两片滤光片按照8～45°的角度胶合在一起，实现小型化，组合件不但使用户无须处理高速模拟光电信号，而且缩短研发和生产周期，还减少元器件采购种类，生产成本大大减少，因此获得了设备制造商的高度关注。

以上所述是本实用新型的优选实施方式而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，都不脱离本实用新型技术方案的保护范围。