[实用新型]双轴组织分子成像装置

权利要求书

1.一种双轴组织分子成像装置，包括光发射单元、第一反射单元、扫描单元、中继单元、内窥单元、第二反射单元和探测单元，其中

所述光发射单元用于发射光束；

所述第一反射单元用于反射所述光束；

所述扫描单元用于将反射的光束扫描到所述中继单元；

所述中继单元用于将扫描后的光束聚焦到所述内窥单元；

所述内窥单元用于将聚焦的光束传导并聚焦到样品上、并接收样品发出的荧光，在所述中继单元和所述内窥单元内，所述荧光沿与光束不同的光路返回；

所述扫描单元还用于将所述荧光扫描到所述第二反射单元；

所述第二反射单元用于将所述荧光反射到所述探测单元；以及

所述探测单元用于采集所述荧光。

2.如权利要求1所述的装置，其中，所述光发射单元用于发射线光束，所述扫描单元进行线扫描，所述探测单元为线阵探测单元。

3.如权利要求2所述的装置，其中，所述光发射单元包括：

光源，用于发射准直光束；以及

扩束线聚焦器，设置在所述光源的出口处，用于将所述准直光束扩束并一维聚焦为线光束。

4.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一反射单元的光入射方向与所述第二反射单元的光出射方向相反。

5.如权利要求1所述的装置，其中，所述扫描单元为检流计式振镜或MEMS振镜。

6.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置还包括设置于所述探测单元与所述第二反射单元之间的荧光聚焦器，其中

所述荧光聚焦器用于将所述第二反射单元反射的荧光聚焦到所述探测单元上。

7.如权利要求6所述的装置，其中，所述荧光聚焦器包括聚焦透镜，用于聚焦所述第二反射单元反射的荧光。

8.如权利要求6所述的装置，其中，所述装置还包括设置于所述荧光聚焦器和所述探测单元之间的狭缝，用于仅允许聚焦平面的荧光通过。

9.如权利要求6所述的装置，其中，所述装置还包括设置于所述荧光聚焦器和所述探测单元之间的滤光器，用于滤除杂散光。

10.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置还包括棒状的壳体，所述光发射单元、所述第一反射单元、所述扫描单元、所述第二反射单元、所述中继单元、所述内窥单元的一部分和所述探测单元均设置在所述壳体内。

11.如权利要求1所述的装置，其中，所述中继单元包括分光透镜和汇聚透镜，其中：

所述分光透镜用于分离进入所述中继单元的光束和荧光；以及

所述汇聚透镜用于聚焦进入所述中继单元的光束和荧光。

12.如权利要求1所述的装置，其中，所述内窥单元包括耦合物镜和成像光纤束，其中：

所述耦合物镜设置在所述成像光纤束的一端，用于将所述聚焦的光束耦合进入所述光纤束的近端；以及

所述成像光纤束用于传导进入的光束。

13.如权利要求12所述的装置，其中，所述内窥单元还包括微型物镜，所述微型物镜设置在所述成像光纤束的另一端，用于将所述光纤束传导的光束聚焦到所述样品上。