[实用新型]一种钻尖设置有内切槽的平底钻有效

专利信息
申请号: 201720865722.2 申请日: 2017-07-17
公开(公告)号: CN207322848U 公开(公告)日: 2018-05-08
发明(设计)人: 陈晓明 申请(专利权)人: 湖北众洋钻业有限公司
主分类号: A44C17/00 分类号: A44C17/00
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 杨立;李蕾
地址: 437600 湖北省咸*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 钻尖 设置 有内切槽 平底
【说明书】:

本实用新型属于珠宝饰品技术领域,具体涉及一种钻尖设置有内切槽的平底钻,其包括钻体,钻体的钻尖为环形的镜面平台结构,在平台结构内设置有内切槽。内切槽包括同轴的上倒圆台槽和下倒圆台槽,上倒圆台槽的上底面的直径小于平台结构的直径,构成向底部凹陷的内切槽结构。本实用新型所提供的钻尖设置有内切槽的平底钻通过在平底钻钻定的平台结构设置内切槽,可以改变平底钻正面中心反光面的结构和层次,增加反光角度,从而增加平底钻正面的反光性能,解决现有平底钻从正面观察中心部位多有暗区的问题,消除正面中心有暗区的问题。

技术领域

本实用新型属于珠宝饰品技术领域,具体涉及一种钻尖设置有内切槽的平底钻。

背景技术

平底钻的材料中主要的成分是二氧化硅和氧化铅,氧化铅的作用是增强其折射和衍射效果,使其具有天然水晶的闪亮效果。用于饰品上的平底钻,通常底部是平的,底部有一个或多个孔,用于缝制固定。

申请号为201530350501.8的外观设计专利公开了一种十面空心平底钻。如同大多数公开的现有技术一样,其进行钻型的外观保护。就现有可见的平底钻而言,钻尖多设置为平面形,这虽然可以增加使用的安全性等,但同时影响了平底钻的反光性能。

实用新型内容

为解决现有技术的不足,本实用新型提供了一种钻尖设置有内切槽的平底钻,其可以增加平底钻正面的反光性能,解决现有平底钻从正面观察中心部位多有暗区的问题。

本实用新型所提供的技术方案如下:

一种钻尖设置有内切槽的平底钻,包括钻体,所述钻体的钻尖为环形的平台结构,在所述平台结构内设置有内切槽,所述内切槽向所述钻体的底部凹陷。

通过上述技术方案,可以改变平底钻正面中心反光面的结构和层次,从而增加反光角度,消除正面中心有观察暗区的问题。

进一步的,所述内切槽包括同轴设置的上倒圆台槽和下倒圆台槽,所述上倒圆台槽连接在所述下倒圆台槽的上端。

进一步的,所述上倒圆台槽的上圆台侧壁的坡度小于所述下倒圆台槽的下圆台侧壁的坡度。

通过上述技术方案,可以强化正面中心外围的反光效果。

进一步的,所述上倒圆台槽的上底面的直径小于所述平台结构的直径。

进一步的,所述上圆台侧壁和所述下圆台侧壁均为镜面。

进一步的,所述下倒圆台槽的下底面为镜面。

进一步的,所述平台结构的上表面为镜面。

本实用新型所提供的钻尖设置有内切槽的平底钻通过在平底钻钻定的平台结构设置内切槽,可以改变平底钻正面中心反光面的结构和层次,增加反光角度,从而增加平底钻正面的反光性能,解决现有平底钻从正面观察中心部位多有暗区的问题,消除正面中心有暗区的问题。

附图说明

图1是本实用新型所提供的钻尖设置有内切槽的平底钻的轴截面图。

图2是本实用新型所提供的钻尖设置有内切槽的平底钻的俯视图。

附图1、2中,各标号所代表的结构列表如下:

1、钻体,2、内切槽,201、上倒圆台槽,202、下倒圆台槽,3、上圆台侧壁,4、下圆台侧壁,5、下底面。

具体实施方式

以下对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实施例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。

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