[实用新型]盖体组件及烹饪器具有效

专利信息
申请号: 201720846269.0 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN207755028U 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 卢均山;程志喜;吕伟刚;罗嗣胜;杨云 申请(专利权)人: 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司
主分类号: A47J27/08 分类号: A47J27/08;A47J27/09
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 尚志峰;汪海屏
地址: 528311 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 盖体组件 烹饪器具 底座 密封件 盖板 上盖 泄压 凹槽开口 锅体方向 压力模块 底壁 锅体 压力控制部件 本实用新型 操作面板 接触处 开口处 凹陷 通孔 有向 密封
【权利要求书】:

1.一种盖体组件,用于烹饪器具,所述烹饪器具包括上盖、锅体和操作面板,其特征在于,所述盖体组件包括:

盖板,设置于所述上盖和所述锅体之间,在所述盖板上设置有向所述锅体方向凹陷的凹槽,所述凹槽的底壁为朝向所述锅体方向,在所述凹槽的底壁上开设有通孔;

压力模块,设置于所述上盖与所述盖板之间,所述压力模块包括底座以及集成于所述底座上的压力控制部件,所述底座置于所述凹槽的开口处;

密封件,设置在所述底座与所述凹槽开口部之间,将所述底座与所述凹槽开口部的接触处进行密封;

其中,在所述密封件上设置有至少一个泄压部,且所述泄压部处的厚度小于所述密封件上非所述泄压部处的厚度。

2.根据权利要求1所述的盖体组件,其特征在于,

所述泄压部处的泄压值小于所述密封件上非所述泄压部处的泄压值。

3.根据权利要求1所述的盖体组件,其特征在于,

所述密封件的底部具有向下延伸的接触部,所述接触部伸入到所述凹槽内部,且所述接触部抵靠在所述凹槽的槽壁上,且所述泄压部设置在所述接触部上。

4.根据权利要求1所述的盖体组件,其特征在于,

所述泄压部的数量为多个,多个所述泄压部均设置远离所述操作面板的方向。

5.根据权利要求3所述的盖体组件,其特征在于,

所述泄压部设置在所述接触部与所述凹槽接触的表面上;和/或

所述泄压部设置在所述接触部远离所述凹槽的表面上。

6.根据权利要求1所述的盖体组件,其特征在于,

所述泄压部为槽形泄压部。

7.根据权利要求1所述的盖体组件,其特征在于,

所述泄压部的厚度自边缘向中心逐渐减小。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的盖体组件,其特征在于,

所述泄压部的厚度为0.5mm至2.5mm之间。

9.根据权利要求3或5项所述的盖体组件,其特征在于,

所述密封件的顶端具有水平延伸的支撑部,所述支撑部与所述底座相适配,且所述支撑部的远离所述接触部的一端伸出所述底座并向外延伸。

10.根据权利要求1至7中任一项所述的盖体组件,其特征在于,所述盖体组件还包括:

压紧件,设置在所述密封件远离所述压力模块的一端上,所述压紧件与所述压力模块相连接,并将部分所述密封件压紧至所述底座上。

11.一种烹饪器具,其特征在于,包括如权利要求1至10中任一项所述的盖体组件。

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