[实用新型]一种晶棒喷淋系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种晶棒喷淋系统。

背景技术

硅片制程中，晶棒预清洗阶段的需要对晶棒两侧进行喷淋清洗操作。

传统晶棒喷淋冲洗是使用两根连接水管的喷淋管对晶棒两侧进行喷淋清洗，不间断转动喷淋管对晶棒各个角度冲洗，直至无污水流出，喷淋结束。该方式需人不断操作喷淋管，人为因素较大，无法避免部分位置无法冲洗干净。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种能够对晶棒两侧进行均匀喷淋，喷淋无死角的晶棒喷淋系统。

本实用新型的目的是这样实现的：

一种晶棒喷淋系统，它包括纵向布置的晶棒，所述晶棒的左右两侧分别设置有一根纵向布置的喷淋管，所述喷淋管的前端设置有封头，所述喷淋管的后端连接供水管，所述喷淋管的正对晶棒的一侧面开设有一排第一喷淋孔，以第一喷淋孔为起点，喷淋管的管径中心为原点，向下的1~50°角范围内开设多排第二喷淋孔。

第一喷淋孔以及多排第二喷淋孔的喷淋孔位置交替。。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型一种晶棒喷淋系统具有能够对晶棒两侧进行均匀喷淋，喷淋无死角的优点，提高了产品的质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1的A处局部放大图。

其中：

晶棒1

喷淋管2、第一喷淋孔2.1、第二喷淋孔2.2

封头3。

具体实施方式

参见图1-图2，本实用新型涉及的一种晶棒喷淋系统，它包括纵向布置的晶棒1，所述晶棒1的左右两侧分别设置有一根纵向布置的喷淋管2，所述喷淋管2的前端设置有封头3，所述喷淋管2的后端连接供水管，所述喷淋管2的正对晶棒1的一侧面开设有一排第一喷淋孔2.1，以第一喷淋孔2.1为起点，喷淋管2的管径中心为原点，向下的1~50°角范围内开设多排第二喷淋孔2.2，（配合喷淋管据晶棒的距离设定合适角度，方便喷淋管的喷淋孔正好能喷在晶棒胶水处，及晶棒周身位置），第一喷淋孔2.1以及多排第二喷淋孔2.2的喷淋孔位置交替，使喷出水柱密集无间隙，如此只需将喷淋管固定，便可全面清洁晶棒硅片内部脏污。