[实用新型]汽药分离装置有效
申请号: | 201720701540.1 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN206897664U | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 袁之润;谭俊杰;李从改;侯玉才;卢晓宾 | 申请(专利权)人: | 商丘爱己爱牧生物科技股份有限公司 |
主分类号: | B04C9/00 | 分类号: | B04C9/00;B04C5/30 |
代理公司: | 北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙)11504 | 代理人: | 宋林清 |
地址: | 476300 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分离 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及药物干燥设备技术领域,尤其涉及一种汽药分离装置。
背景技术
旋风分离器是一种用于气固体系分离的设备,在制药领域主要用于粉体与空气混合流体中粉体的分离过程。其工作原理为依靠混合体系沿切向引入内部形成涡旋运动,在运动中具有较大惯性离心力的固相被甩向内壁,随涡旋运动在分离器底部富集,而具有较小惯性离心力的气相则在随涡旋下降的过程中不断地向分离器中心部分流入,形成向心的径向气流,这部分气流就构成了向上的外旋气流,由分离器顶部的空气出口排出分离器。
药物成分提取之后的喷浆造粒工序所形成的药物粉体含有一定量的水汽,经旋风分离器进行气固分离,以达到干燥的空气将粉体中的水汽带出实现粉体干燥的目的。受限于旋风分离器的分离效率,经分离后的粉体仍含有一定量的水分,且在旋风分离器的下部分易形成结块。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足,提供一种汽药分离装置。
本实用新型是通过以下技术方案实现的:一种汽药分离装置,包括离心搭,送风系统,旋风分离器,增压泵,所述离心塔包括倒圆台型料仓和设置在倒圆台型料仓顶部中心处的离心机,所述离心机与进料系统相连,所述倒圆台型料仓顶部与送风系统相连,底部设有出料口,所述出料口通过料仓出料管道与旋风分离器进料口相连,所述旋风分离器气体出口与排风系统相连,所述旋风分离器出料口与出料管道相连,所述出料管道开设有旁支管道,所述旁支管道与增压泵进口相连,所述增压泵出口与料仓出料管道相连。
优选地,所述倒圆台型料仓侧壁设有气锤。
优选地,所述倒圆台型料仓由上部料仓和下部料仓连接而成,所述上部料仓为第一倒圆台型料仓,所述下部料仓为第二倒圆台型料仓,所述第二倒圆台型料仓倾斜角大于所述第一倒圆台型料仓。
本实用新型的有益效果在于:本实用新型提供的一种汽药分离装置,具有分离效果优良,生产效率高的特点。半湿状物料由进料系统通过离心机进入第一倒圆台型料仓内,送风系统向倒圆台形料仓内输入干燥热风,第一倒圆台型料仓侧壁的气锤可有效防止物料在侧壁黏附,在离心作用和热风作用下将水蒸汽从半湿状物料中脱除,之后湿空气和物料随料仓出料管道进入旋风分离器内,在旋风分离器内湿空气由气体出口进入排风系统内,物料由旋风分离器的出料管道出来,若物料湿度还较高,则由旁支管道通过增压泵再次进入料仓出料管道内进行二次分离,解决了湿物料易在旋风分离器底部结块的问题,使得水蒸汽和物料分离效果更加优良。
附图说明
图1为汽药分离装置的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示的一种汽药分离装置,包括离心搭,送风系统2,旋风分离器3,增压泵9,所述离心塔包括倒圆台型料仓,和设置在倒圆台型料仓顶部中心处的离心机7,所述离心机7与进料系统8相连,所述倒圆台型料仓上部料仓为第一倒圆台型料仓5,下部料仓为第二倒圆台型料仓6,第二倒圆台型料仓倾斜角大于所述第一倒圆台型料仓。所述第一倒圆台型料仓5沿侧壁设置有气锤1。
第一倒圆台型料仓5顶部与送风系统2相连,第二倒圆台型料仓6底部设有出料口4,所述出料口4通过料仓出料管道11与旋风分离器3进料口相连,所述旋风分离器3气体出口与排风系统14相连,所述旋风分离器3出料口与出料管道13相连,所述出料管道13开设有旁支管道12,所述旁支管道12与增压泵9进口相连,所述增压泵9出口与料仓出料管道11相连。
在工作过程中,半湿状物料由进料系统8通过离心机7进入第一倒圆台型料仓5内,送风系统2向倒圆台形料仓内输入干燥热风,第一倒圆台型料仓5侧壁的气锤1防止物料在侧壁黏附,在离心作用和热风作用下将水蒸汽从半湿状物料中脱除,之后湿空气和物料随料仓出料管道进入旋风分离器3内,在旋风分离器3内湿空气由气体出口进入排风系统14内,物料由旋风分离器的出料管道13出来,若物料湿度还较高,有结痂现象,则由旁支管道12通过增压泵9再次进入料仓出料管道11内进行二次分离。
对于本领域的普通技术人员而言,具体实施例只是对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。
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