[实用新型]一种数控加工中心的油水分离装置有效

专利信息
申请号: 201720699043.2 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN206823242U 公开(公告)日: 2018-01-02
发明(设计)人: 黄辉 申请(专利权)人: 成合铁智能装备(昆山)有限公司
主分类号: B01D17/032 分类号: B01D17/032
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市昆山市正*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 数控加工中心 油水 分离 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及数控设备技术领域,特别涉及一种数控加工中心的油水分离装置。

背景技术

出于对工件降温保护的需要,数控加工中心加工工件时会对工件进行喷水处理;另外出于润滑的需要,加工设备和工件上会有油污。因此,在加工的过程中会产生水油混合液体污染物,现有技术中针对排水排污只有一个出口,往往导致排水不彻底,容易淤积油污,影响加工;另外,现有技术在处理水油混合的污染物时,一般不作区分,不利于环保,现有技术中虽然出现有油水分离装置,但是结构复杂,成本高。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型的主要目的在于提供一种结构简单且成本低的数控加工中心的油水分离装置。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种数控加工中心的油水分离装置,包括主体,所述主体包括油水混合槽,所述油水混合槽的一侧设置有排水槽,所述油水混合槽与排水槽的高度相同,所述排水槽的下部设置有与油水混合槽连通的进水孔,所述排水槽上还设置有排水孔,所述主体上设置有承托板,所述承托板上放置有集油槽,所述油水混合槽上设置有朝向集油槽的排油口。

优选的,所述排水孔的高度高于进水孔的高度。

优选的,所述承托板上设置有限位块。

优选的,所述主体上设置有与数控加工中心连接的连接部,所述连接部包括螺栓孔。

本实用新型相对于现有技术具有如下优点,本实用新型的一种数控加工中心的油水分离装置,其工作原理是,从数控加工中心排出的油水混合物首先会进入主体中的油水混合槽,因为油的密度比水要低,油水混合物在油水混合槽中经过一段时间的缓冲后,油会漂浮在水上,位于下部的水会通过进水孔进入排水槽中,排水槽中的水会源源不断的通过排水孔排出,其中油水混合槽与排水槽的高度相同,这样设置的目的是防止油水混合槽中油进入排水槽中,保证了油水分离的效果,其中主体上设置有承托板,承托板上放置有集油槽,油水混合槽上设置有朝向集油槽的排油口,油会通过排油口进入集油槽中,集油槽中的油加满后即可方便的收集。本实用新型的方案结构简单,成本低,油水分离效果好,适合推广应用。

附图说明

图1为本实用新型的一种数控加工中心的油水分离装置的结构示意图。

图中:1、主体;2、油水混合槽;3、排水槽;4、进水孔;5、排水孔;6、承托板;7、集油槽;8、排油口;9、限位块;10、连接部。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1所示,一种数控加工中心的油水分离装置,包括主体1,所述主体1包括油水混合槽2,所述油水混合槽2的一侧设置有排水槽3,所述油水混合槽2与排水槽3的高度相同,所述排水槽3的下部设置有与油水混合槽2连通的进水孔4,所述排水槽3上还设置有排水孔5,所述主体1上设置有承托板6,所述承托板6上放置有集油槽7,所述油水混合槽2上设置有朝向集油槽7的排油口8。

本实用新型的一种数控加工中心的油水分离装置,其工作原理是,从数控加工中心排出的油水混合物首先会进入主体1中的油水混合槽2,因为油的密度比水要低,油水混合物在油水混合槽2中经过一段时间的缓冲后,油会漂浮在水上,位于下部的水会通过进水孔4进入排水槽3中,排水槽3中的水会源源不断的通过排水孔5排出,其中油水混合槽2与排水槽3的高度相同,这样设置的目的是防止油水混合槽2中油进入排水槽3中,保证了油水分离的效果,其中主体1上设置有承托板6,承托板6上放置有集油槽7,油水混合槽2上设置有朝向集油槽7的排油口8,油会通过排油口8进入集油槽7中,集油槽7中的油加满后即可方便的收集。本实用新型的方案结构简单,成本低,油水分离效果好,适合推广应用。

优选的,所述排水孔5的高度高于进水孔4的高度。这样设置的目的是,能够使得进入排水槽3中的水能够积蓄,方便水中的杂物沉积在排水槽3的底部,方便清理。

优选的,所述承托板6上设置有限位块9。限位块9的作用是防止集油槽7从承托板6上滑落。

优选的,所述主体1上设置有与数控加工中心连接的连接部10,所述连接部10包括螺栓孔。连接部10直接通过螺栓孔与数控加工中心连接,连接方式简单牢固。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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