[实用新型]一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构

权利要求书

1.一种针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：包括气室组件以及位于气室组件一侧与气室组件间隔设置的制冷基板，所述气室组件包括上下层叠设置的一个测量气室和多个参考气室，所述制冷基板上设有一激光器，所述测量气室与所述制冷基板相对的侧壁上以及每一所述参考气室与所述制冷基板相对的侧壁上均设有通光口，所述制冷基板与所述气室组件之间设有用于将激光器发出的激光引导至各个所述通光口的分光装置，所述测量气室和所述参考气室内均设有用于将入射到气室内的激光从所述通光口反射出去的反光装置，所述制冷基板上还设有与所述测量气室以及各所述参考气室一一对应的多个光电探测器，所述制冷基板与所述气室组件之间还设有用于将从各个所述通光口反射出来的激光汇聚到对应的所述光电探测器的聚光装置。

2.如权利要求1所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述通光口为光学窗口，所述分光装置包括沿光路依次设置的多个分光镜和一个反射镜。

3.如权利要求2所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述激光器与该光路上的第一个所述分光镜之间设有激光汇聚透镜。

4.如权利要求2所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述聚光装置为与各个所述光电探测器一一对应的多个反射光汇聚透镜。

5.如权利要求1所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述通光口包括入光孔和出光孔，所述分光装置包括分光器、连接激光器和分光器的第一光纤以及连接分光器和各个所述入光孔的第二光纤。

6.如权利要求5所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述聚光装置包括连接所述光电探测器和对应所述出光孔的第三光纤。

7.如权利要求1所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述反光装置包括设置在所述测量气室内壁以及所述参考气室内壁上的多个反射镜，每一所述反射镜与对应气室的所述通光口相对设置。

8.如权利要求1所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述测量气室和所述参考气室均独立设置且相互之间可拆卸连接。

9.如权利要求1所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：还包括对所述测量气室和所述参考气室进行整体控温的温控装置。

10.如权利要求1所述的针对复杂气体光谱分析的多气室结构，其特征在于：所述测量气室和所述参考气室均设有进气口和出气口。