[实用新型]一种激光清洗机的输出结构有效

专利信息
申请号: 201720562007.1 申请日: 2017-05-18
公开(公告)号: CN206794281U 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 唐新华 申请(专利权)人: 佛山市森楠激光设备有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00;B23K26/064;B23K26/073
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 王国标
地址: 528000 广东省佛山市南海区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 清洗 输出 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及激光工程技术领域,特别涉及一种激光清洗机的输出结构。

背景技术

激光清洗机是集激光、光学、机械、电子和计算机等技术于一体的光机电算一体化设备。它利用高能量密度的激光束照射工件表面,使表面的污物、锈斑或涂层发生瞬间蒸发或剥离,从而达到洁净化的工艺过程。激光清洗技术实用、高效、无损伤、无污染,在污垢、锈斑、油漆、橡胶、塑料、残留的溶剂和粘结剂等方面是传统清洗方法所不及的,具有广阔的应用前景。

现有的激光清洗机的输出结构一般利用光束准直系统将光纤输出的激光准直,准直后的光束通过X轴扫描振镜和Y轴扫描振镜打到场镜上,从而在清洗工件表面形成线形光斑。

但是,目前的激光清洗机输出的光束的能量均汇集到一个点上,通过振镜扫描形成一个焦点面,当清洗工件的表面不是平整的时候,由于输出的光束的大部分能量均集中在一个焦点面上,因此清洗的效果不太理想。而且由于X轴扫描振镜和Y轴扫描振镜对光路的入射角有一定要求,因此现有的激光清洗机的输出结构一般占用空间较大。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种对于不平整工件表面清洗效果好和对空间占用需求较小的激光清洗机的输出结构。

本实用新型解决其技术问题的解决方案是:一种激光清洗机的输出结构,包括准直系统、X轴扫描振镜、场镜,还包括长焦深激光透镜和折叠光路结构,所述长焦深激光透镜位于准直系统和X轴扫描振镜之间,所述折叠光路结构包括第一、二、三硅基片,所述第一硅基片将从长焦深激光透镜出来的激光反射到第二硅基片,所述第二硅基片将激光反射到第三硅基片,所述第三硅基片将激光反射到X轴扫描振镜上,所述X轴扫描振镜将激光反射到场镜上。

进一步,所述第一、二、三硅基片均以45度角反射其入射光。

进一步,所述第一、二、三硅基片的反射率大于99.9%。

进一步,所述场镜前面还设有保护片,所述保护片的透光率大于99.9%。

进一步,所述准直系统包括聚焦透镜和准直透镜,所述聚焦透镜的后焦点和准直透镜的前焦点重合。

本实用新型的有益效果是:从激光发射器发出的激光通过准直系统进行准直后,通过长焦深激光透镜对激光束进行整形,长焦深激光透镜内部设有衍射光栅,通过衍射改变光路,使激光产生一个很长的焦点,同时保持较窄的宽度。把传统的激光光斑进行拉长,使其具有长的焦深。从而使得输出的光束的能量在清洗工件表面上下均匀地分布,提高清洗的效果。而且,采用折叠光路结构将激光的入射方向做合理的改变,使得体积较大的准直系统、长焦深激光透镜、X轴扫描振镜、场镜均可以横向排列,方便激光清洗机的外壳构造,降低整个激光清洗机的体积。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单说明。显然,所描述的附图只是本实用新型的一部分实施例,而不是全部实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他设计方案和附图。

图1是激光清洗机的输出结构示意图;

图2是准直系统的光路结构示意图。

具体实施方式

以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述,以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然,所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例,而不是全部实施例,基于本实用新型的实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例,均属于本实用新型保护的范围。另外,文中所提到的所有联接/连接关系,并非单指构件直接相接,而是指可根据具体实施情况,通过添加或减少联接辅件,来组成更优的联接结构。本发明创造中的各个技术特征,在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。

实施例1,参考图1和图2,一种激光清洗机的输出结构,包括外壳a7、准直系统a1、X轴扫描振镜a4、场镜a5,所述外壳a7内设有空腔,所述准直系统a1、X轴扫描振镜a4、场镜a5沿着激光方向依次安装在空腔内,还包括长焦深激光透镜a2和折叠光路结构,所述长焦深激光透镜a2位于准直系统a1和X轴扫描振镜a4之间,所述折叠光路结构包括第一、二、三硅基片a31、a32、a33,所述第一硅基片a31将从长焦深激光透镜a2出来的激光反射到第二硅基片a32,所述第二硅基片a32又将激光反射到第三硅基片a33,所述第三硅基片a33将激光反射到X轴扫描振镜a4上,所述X轴扫描振镜a4将激光反射到场镜a5上。

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