[实用新型]一种静态混合器有效
申请号: | 201720552305.2 | 申请日: | 2017-05-18 |
公开(公告)号: | CN206996320U | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 朱昌辉 | 申请(专利权)人: | 深圳市辉宏技术有限公司 |
主分类号: | B01F5/06 | 分类号: | B01F5/06;B01F15/04;B01F15/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518131 广东省深圳市龙华新区龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 静态 混合器 | ||
技术领域
本实用新型涉及流体混合设备领域,尤其是一种静态混合器。
背景技术
静态混合器广泛应用于日常生活、科研生产的各个领域,如石油化工、航空航天及各类试验设备,用以强化混合、传热、吸收和多相反应等工业操作过程。静态混合器的工作原理是依靠组装在内部的混合单元作用,使两种流体在混合器内里流动时相互掺混、换热,在出口形成温度统一、速度均匀的介质。目前的静态混合器,存在混合不均,结构复杂,加工要求高,制造不便,有死角,能耗较大缺点。因此现有技术有待于改进与完善,以设计出更具工业应用价值的新型静态混合器。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的不足,本实用新型提供了一种静态混合器。
本实用新型所采用的技术方案是:一种静态混合器,包括吸入管道和扰流管道,所述吸入管道为文丘里管道状,所述吸入管道包括法兰、主流流入管道,主流流入管道外圆表面设有螺纹,所述主流流入管道连接导流管道,所述导流管道为口径渐缩的锥型结构,所述吸入管道上部连有引流流入管道,所述引流流入管道包括直筒部分和锥形部分,所述引流流入管道上连接有一控制阀门,所述引流流入管道与吸入管道之间焊接有支撑结构,使引流流入管道与吸入管道为无缝隙连接,增强管道的稳定性,所述支撑结构为板状结构,所述支撑结构还包括吸入管道下部的凹型区的支撑部分,所述吸入管道连接有扰流管道,所述扰流管道内部设有若干与管道成45°倾斜的挡板,所述挡板交错排列在扰流管道内部,挡板上设有若干棱刺,所述扰流管道连接流出管道,所述流出管道内设有感温装置,所述感温装置与PLC控制器连接,所述PLC控制器与引流流入管道上的控制阀门连接。
本实用新型的有益效果是:主流流体通过主流流入管道进入设备,通过导流管道时横截面积逐渐减小,流体流速加大,形成压差,将引流流体通过引流流入管道吸入,通过设置的控制阀门可以调节引流流体的流量,混合液流入扰流管道时,挡板能将流体中的大颗粒、大分子物质切割或者刺破成小颗粒、小分子物质;多个挡板交错设置在扰流管道内部,从而在混合器本体的内部形成蛇形的流通通道,混合液从该流通通道流过时能够与每一个挡板接触,使混合液混合的更加充分,混合液流出时经感温装置获得温度信号传递到PLC控制器,PLC控制器计算信号传到控制阀门调节引流流体的流量以达到所需流体温度,所述静态混合器结构简单,制作简易,利用流体学原理,节省能耗,能够自动控制温度,具有广泛的实用价值。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图1:1.主流流入管道,2.法兰,3.导流管道,4.支撑结构,5.棱刺,6.挡板,7.扰流管道,8.流出管道,9.感温装置,10.PLC控制器,11.控制阀门,12.引流流入管道,13.吸入管道。
具体实施方式
为了能更清楚地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图对本实用新型进一步说明。
如图1所示的一种静态混合器,包括吸入管道13和扰流管道7,所述吸入管道13为文丘里管道状,所述吸入管道13包括法兰2、主流流入管道1,主流流入管道1外圆表面设有螺纹,所述主流流入管道1连接导流管道3,所述导流管道3为口径渐缩的锥型结构,所述吸入管道13上部连有引流流入管道12,所述引流流入管道12包括直筒部分121和锥形部分122,所述引流流入管道12上连接有一控制阀门11,所述引流流入管道12与吸入管道13之间焊接有支撑结构4,使引流流入管道12与吸入管道13为无缝隙连接,增强管道的稳定性,所述支撑结构4为板状结构,所述支撑结构4还包括吸入管道13下部的凹型区的支撑部分,所述吸入管道13连接有扰流管道7,所述扰流管道7内部设有若干与管道成45°倾斜的挡板6,所述挡板6交错排列在扰流管道7内部,挡板6上设有若干棱刺,所述扰流管道7连接流出管道8,所述流出管道8内设有感温装置9,所述感温装置9与PLC控制器10连接,所述PLC控制器10与引流流入管道12上的控制阀门11连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市辉宏技术有限公司,未经深圳市辉宏技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720552305.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种半导体二硫化钼薄膜材料的制备方法
- 下一篇:用于涂敷衬底的设备