[实用新型]一种电子恒温样品架的温控装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及荧光光学检测仪器技术领域，尤其涉及一种电子恒温样品架的温控装置。

背景技术

荧光物质的荧光强度对温度变化很敏感。溶液温度下降时，介质的粘度增大，荧光物质与分子的碰撞也随之减少，去活化过程也减少，则荧光强度增加。相反，随着温度上升，荧光物质与分子的碰撞频率增加，使去活化几率增加，则荧光强度下降。为了获得准确的实验数据，一般需要把样品的测试温度控制在一定范围内。传统的控制温度的方法是通过水浴法来控制样品的测试温度，这种方法温控精度差，而且样品需要预先处理到一定温度。

目前在通过比色法测量组分含量的测量设备中采用了半导体加热制冷片调节来调节测试温度，但是现有利用半导体加热制冷片的方式是在比色皿的一侧加热，造成比色皿内的液体受热不均影响了测量精度，再者由于半导体加热制冷片的加热或制冷范围取决于加热制冷片两端的温差。热端散热良好，两端隔温良好情况下，两端温差取决于制冷片的供电电压。然而现实环境中，在使用加热制冷片制冷时，加热制冷片热端的热量往往难以有效的散出去。现有的方法中，有通过热端施加水浴装置的方式来带走加热制冷片产生的热量，它的温控范围与循环水的温度有关。(理论上循环水水温为加热制冷片热端的温度，冷端的温度等于水温减去两端温差)。但是这种方法不仅增加整个装置的复杂性，而且因为样品可能带有腐蚀性导致水浴装置的腐蚀，水管老化，从而有发生漏水的隐患。

为了克服现有技术中的一些缺陷，提出了一种电子恒温样品架的温控装置。本实用新型采用TEC半导体加热制冷片来控制样品架的温度。TEC半导体加热制冷片利用新的加热制冷技术，具有体积小、响应快、高精度、无制冷剂、易于实现加热制冷转换等优点，可有效提高恒温样品架的控制精度，而且响应迅速。

实用新型内容

本实用新型提出了一种电子恒温样品架的温控装置，包括：底座、散热片、加热制冷片和保温部件；所述加热制冷片设置在所述散热片的中部，所述加热制冷片的导线从所述散热片上凿设的通孔中导出；所述保温部件为一侧开口的中空长方体结构，所述保温部件的开口包覆于所述加热制冷片的四周，所述保温部件的底部与所述底座相固定；其中，所述保温部件的外部为一侧开口的保温壳，所述保温壳的中央设有铜块，所述铜块为中空槽型长方体结构，所述铜块的一侧与所述加热制冷片接触，所述保温壳的顶部具有与所述铜块的槽型位置相对应的开孔；于所述保温壳和所述铜块的三个侧面均设有透光孔。

本实用新型提出的所述电子恒温样品架的温控装置中，所述保温壳与所述散热片之间、所述保温壳与所述铜块的接触面之间设有保温泡沫。

本实用新型提出的所述电子恒温样品架的温控装置中，所述铜块的底部连接有温度传感器，所述温度传感器的导线透过所述散热片上凿设的通孔导出。

本实用新型提出的所述电子恒温样品架的温控装置中，所述槽型的长度延伸到与所述加热制冷片接触的一侧。

本实用新型提出的所述电子恒温样品架的温控装置中，所述铜块中央的槽型内安装有至少一个弹簧片，所述弹簧片包括位于顶部的安装部和下部的弹簧脚，所述安装部通过螺丝与所述铜块固定，所述弹簧脚位于所述透光孔的两侧。

本实用新型提出的所述电子恒温样品架的温控装置中，所述铜块的槽型内进一步设有凹槽，所述凹槽的宽度大于等于所述透光孔的宽度。

本实用新型提出的所述电子恒温样品架的温控装置中，所述保温壳包括：保温壳底盖、保温壳侧板和保温壳上盖；所述保温壳底盖与所述底座通过螺丝连接，所述保温壳侧板成“匚”形，所述保温壳上盖通过螺丝与所述保温壳侧板连接，所述保温壳上盖中设有开孔。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型利用TEC半导体加热制冷片进行加热和制冷，具有体积小、响应快、高精度、无制冷剂、易于实现加热制冷转换等优点，可有效提高恒温样品架的控制精度，而且响应迅速，并且配合铜块使得样品受热均匀。在常温环境下，温控装置的温控范围在15℃-45℃之间，温度控制精度±0.5℃，且带有温度补偿功能。温控装置三面开孔，既可以用于荧光技术检测时直角光路的保温，也可以用于紫外可见技术检测时直线光路的保温。

附图说明

图1是本实用新型一种电子恒温样品架装置的结构图，1a为侧视图，1b为俯视图。

图2是本实用新型一种电子恒温样品架装置侧视图沿A-A方向的剖视图。

图3是本实用新型一种电子恒温样品架装置俯视图沿B-B方向的剖视图。