[实用新型]一种研究单分子层的摩擦学的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及摩擦学领域，特别是一种能够原位观测并估计受约束层的应变率和剪切率的一种研究单分子层的摩擦学的装置。

背景技术

工业上涉及表面接触的应用往往会具有两个滑动表面之间的高约束条件，压强在MPa或GPa范围，通常使用润滑层来减少摩擦，摩擦过程由不同的润滑机制决定，依赖于润滑层的厚度和黏度。从1980年代，由于能够在分子甚至原子尺度进行研究的仪器不断被发明，在摩擦学上对混合区域及边界区域的研究主要包括：一是纳米摩擦学，主要研究高约束条件下的剪切分子薄膜，技术有表面-力仪器(SFA)和原子力显微镜(AFM)，二是最近出现的微流体元件，引导了对剪切流体-固体界面的界面滑移速度的研究的热潮，主要由激光速度测量学技术或动态表面-力仪器来研究，以上两个领域为在约束条件和剪切下同时包含流体和固体行为的合成材料提供了有价值的信息。在高约束薄膜的表面力研究中，关键的参数主要是表面的分子粗糙度，相关流体的分子属性和表面-流体相互作用，表面-力仪器(SFA)被广泛使用于研究受限牛顿液体和细胞膜的流体力学和流体边界条件。在以上两种情况中，表面-力仪器(SFA)实验的精度在纳米量级，显示了高度受限的薄膜的材料特性有不同之处，剪切应力方面的信息可以从法相逼近恒定速度的反向云母表面非间接地得到，或者垂直与平面的小振幅的振荡。

为了更好地表征受限接触中剪切的流变学机制，一系列的仪器被开发出来：剪切实验结合了原位探针技术如FTIR、散射仪器、光学成像、谱学技术等。以上所述这几种技术的结合有助于量化分子在剪切场中的取向以及弛豫，或是实时地探测分子在承压液体中的再定位。一些结合了荧光染料的谱学方法被用于受限薄膜中，来研究法向或侧向压力作用后的分子弛豫或者是修正受限液体中荧光分子的扩散系数，但是其缺点是：最大法向负载太小。荧光技术是在分子尺度估计分子扩散系数和速度的良好手段。流体的侧向运动通常用光脱色荧光恢复技术来研究，这个方法可以与表面-力仪器(SFA)结合，用来研究受限条件下无剪切 运动的聚合物链的扩散系数，同时，这个技术依靠表面-液体相互作用用来估计剪切流或者是局域分子摩擦。

在较低的压强范围，高接触区域的条件，现有技术有荧光探针的宏观摩擦计，给出了剪切的平均信息。但是，目前缺少的是可以提供剪切率以及局域剪切应力随平均接触压力变化的装置，缺少一种能够分析在毫米尺度接触面受到10MPa以上平均接触压强的高度受限薄膜的摩擦相关参数的方法，所述一种研究单分子层的摩擦学的装置能解决问题。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型目的是研究受约束的超薄薄膜在一个可控的平均接触压力作用下的剪切应力等特性，能够在对样品施加压力并原位监控受限区域的同时记录分子扩散和速度流，从而可以同时得到原位剪切力信息和速度场的信息，最终的目标是克服在毫米尺度的接触区域对一个纳米尺度的层进行测量得到速度信息的技术难点，实现原位观测并估计受约束层的应变率和剪切率。

本实用新型所采用的技术方案是：

所述一种研究单分子层的摩擦学的装置主要包括摄像头、快门I、滤光片、光电倍增管、计算机、锁相放大器、激光器、起偏器、普克尔盒、检偏器、快门II、分光器I、平面镜I、分光器II、样品、球面压头、平面镜II、力探测器，所述光电倍增管、计算机、平面镜I分别电缆连接于所述锁相放大器，所述平面镜I连接有位移台，所述球面压头由一个位移机构控制，所述球面压头由玻璃制成且工作时向下压在所述样品表面，所述样品置于一块固定的载玻片上方，所述样品表面产生的光可以通过所述球面压头向上方传输至所述平面镜II，所述平面镜II将光反射到所述摄像头，所述激光器发射的激光束经过所述起偏器、普克尔盒、检偏器、快门II后，由所述分光器I分为两束激光，一束激光经过距离L直接通过所述载玻片照射于所述样品，另一束激光经过距离a后到达所述平面镜I，经过所述平面镜I反射后通过所述载玻片照射于所述样品，上述照射于所述样品的两束激光呈θ角，从而在所述样品表面处产生光的干涉图案，所述样品上被光照亮的区域面积约二平方毫米，所述样品发出的光依次经过所述分光器II、快门I、滤光片后进入所述光电倍增管。

所述球面压头上方具有所述平面镜II和力探测器，所述力探测器能够测量所述球面压头与所述样品表面之间的法向力及切向力；所述摄像头与激光光路分离，并可以单独控制，能够原位监控所述球面压头与所述样品表面的接触面；能够通过所述普克尔盒及所述快门II使激光产生一个小于1秒的极短的满强度的脉冲，对亮条纹处的荧光标记的相应种类的分子进行光脱色。