[实用新型]一种基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置有效
申请号: | 201720447314.5 | 申请日: | 2017-04-26 |
公开(公告)号: | CN206906709U | 公开(公告)日: | 2018-01-19 |
发明(设计)人: | 高文宏;郭泽彬 | 申请(专利权)人: | 北京镭创高科光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/28 | 分类号: | G02B27/28;G02B27/09 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心11120 | 代理人: | 仇蕾安,郭德忠 |
地址: | 100176 北京市通州区北京经济*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 复眼 透镜 激光 显示 起偏匀场 整形 装置 | ||
1.一种基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,该装置包括光纤、准直透镜、PBS、反射镜、半波片、复眼透镜Ⅰ、复眼透镜Ⅱ以及透镜;
所述光纤的出射光路上依次设置准直透镜和PBS,PBS的出射面上设置半波片,PBS将光纤的激光光束分光后,S光反射的光路上设置反射镜,S光在反射镜上发生反射;P光透射过半波片后转变为S光出射,出射光路上依次设置复眼透镜Ⅰ、复眼透镜Ⅱ和透镜;反射和出射的两路S光以相同的角度入射复眼透镜Ⅰ,经复眼透镜Ⅱ和透镜,实现匀场和整型后的光斑。
2.如权利要求1所述的基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,利用内反射镜PBS代替PBS和反射镜的组合。
3.如权利要求1所述的基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,通过改变半波片的位置实现P光的输出。
4.如权利要求2所述的基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,所述光纤与准直透镜垂直于复眼透镜轴线方向设置,半波片设置在内反射镜PBS的反射光出射面上。
5.如权利要求2所述的基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,所述光纤、准直透镜、内反射镜PBS和半波片组成S光出射组件,两组S光出射组件呈中心对称设置,两组S光出射组件中光纤的光束同时位于垂直于复眼透镜轴线方向的直线上。
6.如权利要求2所述的基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,对准直透镜输入时采用平行光束,平行光束利用准直透镜对光纤输出光束准直或采用空间平行光束直接输入来实现。
7.如权利要求5或6所述的基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,采用多根光纤,多种入射角度方式实现匀场整型及起偏功能。
8.如权利要求7所述的基于复眼透镜的激光显示起偏匀场整形装置,其特征在于,在PBS前入射光位置或PBS与复眼透镜组之间放置散射片。
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