[实用新型]光学成像系统有效
申请号: | 201720400512.6 | 申请日: | 2017-04-17 |
公开(公告)号: | CN206757159U | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 赖建勋;唐乃元;刘耀维;张永明 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 中国台湾中部科学工业*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依次包括:
一第一透镜,具有屈折力;
一第二透镜,具有屈折力;
一第三透镜,具有屈折力;
一第四透镜,具有屈折力;
一成像面;以及
一透镜定位组件,其中所述透镜定位组件呈中空且可容置任一透镜,并使上述透镜排列于光轴上,所述透镜定位组件包括一物端部以及一像端部,所述物端部靠近物侧且具有一第一开口,所述像端部靠近像侧且具有一第二开口,所述透镜定位组件的外壁包括至少二个切平面,上述切平面分别具有至少一成型灌口痕,所述光学成像系统具有屈折力的透镜为四枚,所述第一透镜至所述第四透镜中至少一枚透镜具有正屈折力,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射光瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS,所述第一透镜物侧面至所述第四透镜像侧面于光轴上具有一距离InTL,所述光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3以及ETP4,前述ETP1至ETP4的总和为SETP,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜以及所述第四透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3以及TP4,前述TP1至TP4的总和为STP,其满足下列条件:1≦f/HEP≦10;0deg<HAF≦150deg以及0.5≦SETP/STP<1。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述透镜定位组件的外壁包括至少三个切平面,上述切平面分别具有至少一成型灌口痕。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一开口的内径为OD,所述第二开口的内径为ID,其满足下列条件:0.1≦OD/ID≦10。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述物端部的最小厚度为OT以及所述像端部的最小厚度为IT,其满足下列条件:0.1≦OT/IT≦10。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP1,所述第二透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP2,所述第三透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP3,所述第四透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度为ETP4,前述ETP1至ETP4的总和为SETP,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第四透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列公式:0.3≦SETP/EIN<1。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统包括一滤光组件,所述滤光组件位于所述第四透镜以及所述成像面的间,所述第四透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述滤光组件间平行于光轴的距离为EIR,所述第四透镜像侧面上与光轴的交点至所述滤光组件间平行于光轴的距离为PIR,其满足下列公式:0.1≦EIR/PIR≦1.1。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,可见光在所述成像面上的光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处于空间频率55cycles/mm的调制转换对比转移率分别以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示,其满足下列条件:MTFE0≧0.2;MTFE3≧0.01;以及MTFE7≧0.01。
8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第三透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,所述第四透镜像侧面上与光轴的交点至所述成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≦EBL/BL≦1.5。
9.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,还包括一光圈,并且所述光圈至所述成像面于光轴上具有一距离InS,其满足下列公式:0.2≦InS/HOS≦1.1。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进光电科技股份有限公司,未经先进光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720400512.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。