[实用新型]缸盖清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及孔内清洗技术领域，特别是涉及一种缸盖清洗装置。

背景技术

目前清洗缸盖内的铝屑，多数采用将喷头放在缸头内进行喷射，以将缸头内铝屑冲走，而此种方式能将大部分的铝屑清理干净，但对于孔内的铝屑，则较难清洗掉，同时部分铝屑容易堆积在缸盖底部。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种能清理缸盖孔内的缸盖清洗装置。

为解决上述问题，本实用新型提供一种缸盖清洗装置，所述缸盖清洗装置包括机架、密封盖板、压紧组件、侧面密封组件、顶部密封组件、第一电磁阀、第二电磁阀和控制箱，所述机架上设有注液通道和排水通道，排水通道与注液通道，所述排水通道通过排水密封组件密封，所述压紧组件、侧面密封组件、顶部密封组件、排水密封组件、第一电磁阀和第二电磁阀均与控制箱电连接，所述控制箱通过控制第一电磁阀将清洗液从注液通道注射到缸盖内，所述控制箱通过控制第二电磁阀将清洗液从顶部密封组件注射到缸盖内，所述控制箱控制左 侧密封组件、右侧密封组件、排水密封组件和顶部密封组件密封缸盖的孔使其缸盖内形成一个清洗通道，所述清洗通道具有至少一个出水口，所述压紧组件用于将缸盖固定在机架上，所述密封盖板用于密封缸盖上端面，所述机架上设有定位柱。

进一步的，所述顶部密封组件包括推动气缸、转接杆以及密封圈，所述密封圈通过转接杆与推动气缸的活塞杆固定，所述转接杆内设有流道，所述电磁阀设在流道内。

进一步的，所述压紧组件包括压紧缸和压紧块，所述压紧缸固定在所述机架上，所述压紧块固定在所述压紧缸的活塞杆上。

进一步的，所述压紧组件还包括压紧杆，所述压紧块通过压紧杆固定在活塞杆上。

进一步的，所述压紧块上设有橡胶垫。

进一步的，所述机架包括架体和工作台，所述工作台固定在架体上。

本实用新型缸盖清洗装置通过将缸盖的孔密封一部分或者不密封，利用高压将清洗液注射到缸盖的孔内，然后利用未密封的孔排出，根据顺序排出，反复几次则完全将孔内的铝屑冲刷出来，简单方便，高效。

附图说明

图1是本实用新型缸盖清洗装置的较佳实施方式的结构示意图。

图2是工作台的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1和图2所示，本实用新型缸盖清洗装置的较佳实施方式包括机架1、密封盖板71、压紧组件、两个侧面密封组件、排水密封组件、顶部密封组件、第一电磁阀72、第二电磁阀73和控制箱74。所述机架1包括架体11和工作台12，所述工作台12固定在架体上，所述工作台12上设有定位柱13，便于将缸盖快速定位。所述顶部密封组件、压紧组件和排水密封组件固定在架体11上，所述两个侧面密封组件分别固定在工作台12的两端。所述工作台12用于放置缸盖，所述密封盖板71用于密封缸盖上端面，所述压紧组件压紧密封盖板71，使其缸盖固定在工作台12上。所述工作台12设有三个注液通道121和三个排水通道122，可通过注液通道121将清洗液注射到缸盖内，每一注液通道121均一个排水通道122连通并呈T形交叉。每一排水通道122对应有一个排水密封组件，所述排水密封组件用于密封排水通道122，所述排水密封组件位于工作台12后方。所述压紧组件、侧面密封组件、顶部密封组件、排水密封组件、第一电磁阀72和第二电磁阀73均与控制箱74电连接，所述控制箱74通过控制第一电磁阀72将清洗液从注液通道注射到缸盖内，所述控制箱74通过控制第二电磁阀73将清洗液从顶部密封组件注射到缸盖内，所述控制箱74控制左侧密封组件、右侧密封组件、排水密封组件和顶部密封组件密封缸盖的孔使其缸盖内形成一个清洗通道。

所述侧面密封组件包括推动气缸3和设在推动气缸3活塞杆上的密封板4，推动气缸3与控制箱74电连接，控制箱74控制推动气缸3使其密封板4密封缸盖侧面的孔。所述密封板4上设有橡胶垫，便于密封板4与缸盖9之间更加贴合，避免缸盖9和密封板4之间出现空隙，从而发生泄漏，同时还可保护缸盖9被密封板4划伤。

所述顶部密封组件包括推动气缸3、转接杆51以及密封圈52，所述转接杆51的一端与推动气缸3的活塞杆固定，所述转接杆51的另一端与密封圈52固定，所述转接杆51内设有流道，所述第二电磁阀73设在转接杆51上，控制流道的关闭和打开。所述推动气缸3与控制箱74电连接，控制箱74控制推动气缸3使其密封圈52密封缸盖上端的孔。