[实用新型]固定治具及研磨装置有效
申请号: | 201720379616.3 | 申请日: | 2017-04-11 |
公开(公告)号: | CN206732789U | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 王夏 | 申请(专利权)人: | 广东长盈精密技术有限公司 |
主分类号: | B24B37/30 | 分类号: | B24B37/30;B24B37/10 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 刘雯 |
地址: | 523808 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固定 研磨 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及工件加工领域,特别是涉及一种固定治具及研磨装置。
背景技术
工件在进行表面加工处理时,有时根据设计需求,需要将工件的外表面区域研磨平整,使得工件的外表面呈现光亮的外观效果。研磨时,通常将工件固定到固定治具上,然后通过转轴旋转下移,使得转轴与固定治具相接触并不断挤压固定治具,从而将固定治具固定到机台上,并通过机台上的研磨设备对工件进行研磨处理。当研磨结束以后,转轴反向旋转不断上移,使得转轴与固定治具相分离,从而将固定治具从机台上取下。然而在转轴旋转上移的过程中往往会产生真空吸附的作用,使得固定治具跟随转轴一齐上升,从而造成固定治具因重力掉落而引起的安全事故的发生。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种能够克服转轴旋转上移过程中产生的真空吸附作用的固定治具及研磨装置。
一种固定治具,用于工件的固定,所述固定治具用于与转轴相配合,包括:
底座,所述底座上开设有相互连通的凹槽和通气槽,所述转轴能够容置于所述凹槽,且所述通气槽与外部相连通,所述底座上还开设有第一固定孔;
用于安装所述工件的转台,设置于所述底座上,所述转台上开设有第二固定孔;及
螺纹紧固件,所述螺纹紧固件穿设于所述第一固定孔和所述第二固定孔,以使所述转台与所述底座固定连接;
其中,所述转轴与所述凹槽的底壁相抵接,当所述转轴通过旋转向远离所述底座的方向移动时,所述凹槽通过所述通气槽与外部相连通,以防止所述凹槽形成负压,继而以防止所述底座吸附于所述转轴上。
在其中一个实施例中,所述通气槽为多个,多个所述通气槽呈散射状均匀分布于所述凹槽的四周。
在其中一个实施例中,还包括定位块,所述定位块设置于所述转台远离所述底座的一侧,所述定位块能够与所述工件的安装槽相配合,以将所述工件定位于所述转台。
在其中一个实施例中,所述定位块为两个,两个所述定位块相对设置于所述转台的两侧。
在其中一个实施例中,还包括第一定位销钉,所述底座上开设有第一定位孔,所述转台上开设有第二定位孔,所述第一定位销钉穿设于所述第一定位孔并与所述第二定位孔相配合,以限制所述转台相对所述底座的移动。
在其中一个实施例中,所述转台上设置有第二定位销钉,所述第二定位销钉能够与所述工件的第一连接孔相配合,以限制所述工件相对所述转台的移动。
在其中一个实施例中,所述转台上还设置有第三定位销钉,所述第三定位销钉能够与所述工件的第二连接孔相配合,以限制所述工件相对所述转台的移动。
在其中一个实施例中,还包括用于与所述工件的辅助孔相配合连接柱,所述连接柱设置于所述定位块远离所述转台的一侧。
在其中一个实施例中,所述通气槽为条形槽。
一种研磨装置,用于对所述工件的研磨,包括:上述固定治具,及转轴和工作台,所述转轴位于所述固定治具的一侧,所述工作台连接于所述固定治具远离所述转轴的一侧,所述转轴能够通过旋转向靠近所述固定治具的方向移动,以使所述转轴能够抵接并挤压所述固定治具,继而以限制所述固定治具相对所述工作台的移动。
上述固定治具,通过设置底座和用于安装工件的转台,同时通过设置螺纹紧固件,从而使得底座和转台固定连接,底座上开设有用于与转轴相配合的凹槽和通气槽,且通气槽与凹槽相连通,通气槽与外部相连通,转轴与凹槽的底壁相抵接,当转轴通过旋转向远离底座的方向移动时,凹槽能够通过通气槽与外部相连通,从而可以防止凹槽形成负压,继而能够防止底座吸附于转轴上。上述固定治具通过底座上通气槽的开设,从而可以较好地克服因转轴旋转上移过程中产生的真空吸附作用,防止固定治具跟随转轴一齐上升,从而可以避免固定治具因重力掉落而引起的安全事故的发生。
附图说明
图1为本实用新型一实施例中的研磨装置的结构示意图;
图2为图1所示研磨装置中固定治具的结构示意图;
图3为图2所示固定治具的另一结构示意图;
图4为图2所示固定治具的又一结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型,下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是,本实用新型可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反地,提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。
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