[实用新型]一种射流抛光自清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及抛光机技术领域，更具体的说，特别涉及一种射流抛光自清洗装置。

背景技术

随着现代光学、电子学、薄膜科学及航空航天等科学的飞速发展，光学元件及功能元件的形状越来越复杂，表面质量的要求也越来越苛刻，超光滑表面的应用也越来越高。超光滑表面除了面形精度和表面粗糙度要求极高以外,还要求表面有完好的晶格结构、无缺陷,能消除加工损伤层。1998年，荷兰Delft大学的首先利用了FJP技术，并将其用在了光学元件的表面抛光上并获得了1.6nm的表面粗糙度，显示出FJP的超光滑表面加工能力。

实验表明，含有磨料颗粒的溶液射流对工件表面有去除而清水射流对工件表面无去除。现有的射流抛光机在实验或者加工后没有有效的清洗装置和工艺技术。一般在射流停止后将工件取出的过程中会造成部分磨料颗粒沉积在工件上，后期需大量的清水冲洗，即使如此仍有少量的磨料颗粒沉积于表面，影响产品质量。

发明内容

本实用新型的目的在于针对现有技术存在的技术问题，提供一种射流抛光自清洗装置，有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的问题，而且装置整体结构简单、成本低、清洗效果好且操作简便。

为了解决以上提出的问题，本实用新型采用的技术方案为：

一种射流抛光自清洗装置，包括溶液存储罐、隔膜泵、收集箱、管路、磨料射流喷头、去离子水喷头、二位三通阀、清洗压力泵和去离子水存储罐；

所述溶液存储罐内盛放磨料射流溶液，收集箱设置在溶液存储罐上方；工件设置在收集箱内，并与收集箱的入口位置相对应，所述收集箱的出口通过二位三通阀与溶液存储罐连通；所述隔膜泵也与溶液存储罐连通，并通过管路连接磨料射流喷头；所述去离子水存储罐内盛放去离子水，所述清洗压力泵与去离子水存储罐连通，也通过管路连接去离子水喷头；所述去离子水喷头位于磨料射流喷头一侧，两者分别喷射去离子水和磨料射流溶液并作用在工件上。

所述装置还包括用于收集废液的废液存储罐，其与二位三通阀的出口连接，并与去离子水存储罐、溶液存储罐并列放置。

所述装置还包括控制器，其分别连接隔膜泵、清洗压力泵和二位三通阀，用于控制隔膜泵和清洗压力泵的开关、以及二位三通阀的开关的逻辑顺序。

所述收集箱采用矩形透明盒PVC，其包括箱体和顶盖，顶盖安装在箱体顶部；箱体内侧底部设置有安装工件的固定台7c，顶盖中部加工有通孔作为入口7a，箱体侧面底端一侧加工有通孔作为出口7b，所述收集箱的出口7b通过二位三通阀与溶液存储罐连通。

采用机架作为安装载体，其内侧采用三层分布即上层、中层和下层，上层设置有磨料射流喷头、去离子水喷头、收集箱，中层设置有二位三通阀、控制器以及清洗压力泵，下层设置溶液存储罐；所述隔膜泵、去离子水存储罐以及废液存储罐置于机架外侧。

采用夹持装置用于固定磨料射流喷头和去离子水喷头。

所述工件通过工件夹安装在收集箱的固定台7c上。

所述磨料射流喷头位于收集箱入口的正上方。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

本实用新型中通过设置溶液存储罐和去离子水存储罐，并通过磨料射流喷头和去离子水喷头分别喷射磨料射流溶液和去离子水，作用在工件表面，这样有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的技术问题，省去了后期冲洗时的繁琐步骤，节约水源，而且装置整体结构简单、成本低、清洗过程方便、效果好。

附图说明

图1为本实用新型射流抛光自清洗装置的结构示意图。

图2为本实用新型收集箱的整体结构示意图。

图3为本实用新型收集箱的局部结构示意图。

附图标记说明：1-机架、2-溶液存储罐、3-隔膜泵、4-控制器、5-工件、6-工件夹、7-收集箱、7a-入口、7b-出口、7c-固定台、8-磨料射流喷头、9-夹持装置、10-第二管路、11-第一管路、12-去离子水喷头、13-二位三通阀、14-清洗压力泵、15-废液存储罐、16-去离子水存储罐

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。